研究課題
基盤研究(C)
本研究は微結晶シリコン製膜プロセスの高速化・高品質化・大面積化を目指して、特にガス流れに注目し、プラズマや膜特性との関係を詳細に調べ、製膜プロセスの高度化を図ることを目的としている。シランプラズマ中で超音速噴流を用いると、ガス圧とノズル基板間距離を最適化することで従来の約1000倍以上の製膜速度が得られるが、同時に気相中に発生するクラスターが膜質を劣化させる。これに対し、マルチロッドとマルチホローを組み合わせた電極を用いることで、高品質な膜を高速かつ大面積に得られる見通しを得た。
応用物理学
