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2015 年度 研究成果報告書

大気圧マイクロプラズマを用いた半導体結晶成長アシストの基礎研究

研究課題

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研究課題/領域番号 25390109
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 プラズマエレクトロニクス
研究機関静岡大学

研究代表者

清水 一男  静岡大学, イノベーション社会連携推進機構, 准教授 (90282681)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
キーワードマイクロプラズマ / 表面改質 / 結晶成長 / GaN
研究成果の概要

大気圧マイクロプラズマを用いてGaNの表面改質効果を実験的に検討した。接触角をθ/2法による算出を行ったところ、プラズマ処理前では65.8°、プラズマ処理後では22.6°となり、40°以上の減少が確認された。またプラズマによる表面処理によって対象物の表面への官能基の導入や化学組成の変化が期待されるためGaNの表面処理後の化学的変化を調べるためXPSを用いてGaN表面の化学結合解析を行ったところ、GaNを形成しているN-Gaピークの増加がマイクロプラズマ処理後のサンプルより確認された。マイクロプラズマ処理による各種活性種がGaN表面へ作用したものと考えられる。

自由記述の分野

大気圧マイクロプラズマ応用

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公開日: 2017-05-10  

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