2015 年度研究成果報告書

置換活性部位を持つキレート配位子を導入した反応性金属－ケイ素錯体の開発と触媒機能

研究課題

研究課題/領域番号	25410058
研究種目	基盤研究(C)
配分区分	基金
応募区分	一般
研究分野	無機化学
研究機関	東北大学
研究代表者	小室貴士東北大学, 理学(系)研究科(研究院), 助教 (20396419)
研究期間 (年度)	2013-04-01 – 2016-03-31
キーワード	シリル錯体 / キレート配位子 / キサンテン誘導体 / 後周期遷移金属 / 配位不飽和錯体 / 触媒反応 / C-H結合活性化 / 水素化
研究成果の概要	金属に弱く配位可能な酸素配位子部分を含むシリルキレート配位子（ビス(シリル)およびシリル(ホスフィン)キサンテン誘導体）を有する反応活性な後周期遷移金属(Ru, Rh, Ir)錯体を合成し，得られた錯体の反応性・触媒機能を調べた。その結果，同錯体を触媒とした特異な反応として，“(1) 温和な条件下での芳香環C-H結合の活性化を経るアリールアルキンのシリル化反応”，および“(2) 金属－ケイ素結合上での可逆的な水素化/脱水素化を経るアルケンの水素化”を開発した。
自由記述の分野	有機金属化学