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ロールナノインプリント法により、プラスチック基板上への金属ナノ構造転写技術の確立を行った。具体的には、樹脂製のレプリカモールドを作製し、このパターンの底部にのみ銀インクを残し、この部分を光硬化樹脂で取ることで、プラスチック基板上に絶縁分離された金属のナノパターンの作製が可能となった。使用した技術は、ロール動作と液体分離による余分な銀インクや樹脂の除去である。この結果、転写速度が10 m/minと高速の場合でも、100nmを切る銀ナノパターンを作製できた。さらに、ロールプレス法による金属ナノパターン積層技術を開発し、１０層の積層構造が可能となった。また、プラズモンによる発光も確認した。
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