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本研究では，パルス電子ビームによる滅菌技術の確立を目指した。まず，イオン衝撃二次電子銃を構築し，発生する電子ビームの各種特性を調べた。特に，照射に伴う吸収線量の絶対値を計測できるシステムを構築した。次に，滅菌実験により，電子ビームの照射周波数を増加させると殺菌効果は向上し，処理時間を大幅に短縮できることを明らかにした。また，電子ビーム照射により生成されるラジカルが，殺菌効果の向上に寄与していることを明らかにした。さらに，細菌表面の観察により，電子ビーム照射による芽胞のコアの損傷が，菌の死滅の原因であることがわかった。以上の結果より，電子ビーム照射が滅菌の有効な手法であることを示した。
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