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2015 年度 研究成果報告書

TEM-STMその場計測による抵抗変化メモリの動作機構解明

研究課題

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研究課題/領域番号 25420279
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関北海道大学

研究代表者

有田 正志  北海道大学, 情報科学研究科, 准教授 (20222755)

研究分担者 高橋 庸夫  北海道大学, 大学院情報科学研究科, 教授 (90374610)
末岡 和久  北海道大学, 大学院情報科学研究科, 教授 (60250479)
柴山 環樹  北海道大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (10241564)
研究協力者 工藤 昌輝  
大野 裕輝  
高橋 謙仁  
平田 周一郎  
村上 暢介  
越智 隼人  
米坂 瞭太  
武藤 恵  
中根 明俊  
廣井 孝弘  
勝村 玲音  
森 雄司  
研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
キーワード抵抗変化メモリ / 電子顕微鏡 / 電子・電気材料 / 電子デバイス・機器 / ナノ材料
研究成果の概要

抵抗変化メモリ(ReRAM)がbeyond CMOSを目指して研究・開発されている.その動作原理の解明は最重要課題であり,電気化学に基づくモデルの提唱はあるが,不明な点が多い.本研究では,その場透過電子顕微鏡法により金属フィラメント型ReRAM内の微細構造を実時間観察した.その結果,高抵抗⇔低抵抗(Set,Reset)の動作時には大きな変化はなく,追加の通電により大きな構造変化の生じる事が分かった.ナノ領域での変化が抵抗スイッチに寄与している.大きな構造変化はスイッチ箇所の不安定化,金属イオンの固溶を促進し,劣化を生じた.Set,Reset時の投入電力バランスが安定動作に重要であると言える.

自由記述の分野

電気電子工学

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公開日: 2017-05-10  

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