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2016 年度 研究成果報告書

新しいp型ワイドギャップ半導体CuxZnyS

研究課題

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研究課題/領域番号 25420286
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関名古屋工業大学

研究代表者

市村 正也  名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (30203110)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2017-03-31
キーワードCuZnS / ワイドギャップ / p型半導体 / 電気化学堆積 / 光化学堆積
研究成果の概要

p型ワイドギャップ半導体CuxZnySのデバイス応用を試み、同時にそのための基礎物性評価を行った。組成と伝導型の関係を調べたところ、Cu組成比が0.5~0.7%を境界としそれ以上ではp型、以下ではn型の伝導型をしめすことが分かった。また、硫黄雰囲気中で熱処理をしたところ、200℃程度まではp型を示すが、それ以上の温度では真性に近くなることがわかった。また、デバイス応用のため、n型ワイドギャップ半導体薄膜とのヘテロ接合作製を試みた。n型層としてはZnO、ZnSを用いた。いずれのヘテロ接合でも整流性と光応答が確認された。これより、CuxZnySは透明p型半導体として光電子素子応用に有望である。

自由記述の分野

半導体工学

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公開日: 2018-03-22  

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