| 研究課題/領域番号 |
25420299
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
電子・電気材料工学
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| 研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 (2014-2015)
早稲田大学 (2013) |
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研究代表者 |
西永 慈郎 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 太陽光発電研究センター, 研究員 (90454058)
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| 連携研究者 |
堀越 佳治 早稲田大学, 理工学術院, 教授 (60287985)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| キーワード | 有機・無機半導体ヘテロ界面 / フラーレン / GaAs / MBE / HEMT |
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| 研究成果の概要 |
C60分子に無機半導体で培われた半導体結晶成長・評価技術を応用することで、有機・無機半導体ヘテロ構造の作製および新規電子デバイスの提案を行った。MBE法によりC60 doped GaAs薄膜を作製したところ、GaAs結晶に欠陥なくC60分子の添加に成功した。電気的特性より添加されたC60分子はGaAs結晶中にて電子トラップとして機能し、電界もしくは赤外線により、トラップされていた電子が放出されることがわかった。これはC60分子が無機半導体中にてサイズが均一な量子ドットとして機能していることを示唆している。
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| 自由記述の分野 |
電気電子工学、電子・電気材料工学
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