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2014 年度 実施状況報告書

無機半導体を用いた新規高性能フレキシブル・フラットパネル・ディスプレイの開発

研究課題

研究課題/領域番号 25420314
研究機関秋田大学

研究代表者

佐藤 祐一  秋田大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (70215862)

研究分担者 齋藤 嘉一  秋田大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (10302259)
研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2017-03-31
キーワード半導体
研究実績の概要

当該年度は,発光源作製のために必要ないくつかの要素について研究を進めた。すなわち,発光層用の半導体材料であるⅢ族窒化物半導体薄膜が良質な状態で形成でき,かつキャリア注入を良好に行うことが可能であり,さらに発光源からの発光が外部へ効率良く放出されるような透明電極薄膜について検討を行った。一つはGaN系材料によるものであり,Geの高濃度ドーピングによりその抵抗率を十分に低下することができ,かつ広い波長範囲で透過率が高い状態を保つことができることを確認した。さらにこの材料においては結晶性も高く,その上に形成する窒化物半導体薄膜の結晶性へも良好な効果をもたらすことが期待できる。この他に,In2O3系材料についても検討を行い,スパッタリング法で結晶性および透過率が高い状態で抵抗率を低下するための作製条件の最適化を図った。
上記の電極材料の検討に加え,いくつかの非晶質基板の上に発光源を構成するための各種Ⅲ族窒化物半導体薄膜を形成し,それらの結晶性,光学的特性,および電気的特性などについて検討を行った。その結果,高度にc軸配向した窒化物薄膜がいずれの場合にも得られ,InGaN混晶においては相分離が生じていないものが得られることを確認した。また,不純物ドーピングによる発光強度の増大効果および抵抗率の制御について確認できた。p型不純物をドープした場合には,熱処理を行わなくとも単結晶の場合と同様にp型導電性を示すことを電気化学的C-V測定により確認した。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

発光源を構成するための電極材料の開発,非単結晶基板上での発光層としてのⅢ族窒化物半導体薄膜への不純物ドーピングによる電気的特性の制御,および不純物ドーピングによる発光特性の向上などについて各要素ごとに成果が得られてきている。

今後の研究の推進方策

発光源構成のための各要素の検討をさらに推し進めた後,発光源を構成し,その発光特性について最適化を図っていく。

次年度使用額が生じた理由

当該年度は各種電極材料の開発および非単結晶基板上での発光層としてのⅢ族窒化物半導体薄膜の諸特性について検討を行ったが,それらの組成分析や不純物分析,および高分解能結晶解析などについて行うことができなかった。主にそのための費用が次年度への繰り越しとなった。

次年度使用額の使用計画

次年度は各薄膜の組成分析や不純物分析,および高分解能結晶解析などについて繰り越し分の費用を用いて実施する予定である。

  • 研究成果

    (12件)

すべて 2015 2014

すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件) 学会発表 (9件)

  • [雑誌論文] Effects of two-step heat treatment on properties of In2O3:Zr thin film epitaxially grown on c-face sapphire substrate2015

    • 著者名/発表者名
      Yuichi Sato, Tadahiko Aoshima, and Yuhei Muraki
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: - ページ: -

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Growth of high-indium-content InGaN:Mg thin films by MBE method with dual RF nitrogen plasma cells2014

    • 著者名/発表者名
      Yuichi Sato, Tatsuya Matsunaga, Hiroki Takemoto, Yoshifumi Murakami, Yuhei Muraki, and Syota Ishizaki
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 53 ページ: 11RC04-1-5

    • DOI

      dx.doi.org/10.7567/JJAP.53.11RC04

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Properties of GaN-related Epitaxial Thin Films Grown on Sapphire Substrates as Transparent Conducting Electrodes2014

    • 著者名/発表者名
      Yuichi Sato and Tatsuya Matsunaga
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 783-786 ページ: 1652-1657

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/MSF.783-786.1652

    • 査読あり
  • [学会発表] Properties of GaN and InGaN Thin Films Grown on Non-Single-Crystalline Substrates by MBE Using Single or Dual Nitrogen Plasma Cells2015

    • 著者名/発表者名
      YUICHI SATO, SYOTA ISHIZAKI, YOSHIFUMI MURAKAMI, MOHAMAD IDHAM, NUR AIN, YUHEI MURAKI , AND TATSUYA MATSUNAGA
    • 学会等名
      ISPlasma2015
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2015-03-26 – 2015-03-31
  • [学会発表] Investigation on Sputter-Growths of In2O3 based Under-Electrodes on a Sapphire Substrate for Group-Ⅲ Nitride Solar Cells2015

    • 著者名/発表者名
      YUHEI MURAKI, SYOTA ISHIZAKI, YOSHIFUMI MURAKAMI, AND YUICHI SATO
    • 学会等名
      ISPlasma2015
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2015-03-26 – 2015-03-31
  • [学会発表] 非単結晶基板上に成長したⅢ族窒化物半導体薄膜の結晶性および光学的特性2015

    • 著者名/発表者名
      石崎 翔太,村上 佳詞,松永 竜弥,モハマド イドハム,佐藤 祐一
    • 学会等名
      2015年電子情報通信学会総合大会
    • 発表場所
      立命館大学
    • 年月日
      2015-03-10 – 2015-03-13
  • [学会発表] 不純物をドープした非晶質基板上Ⅲ族窒化物半導体薄膜の電気的特性の評価2015

    • 著者名/発表者名
      村上 佳詞, 石崎 翔太, ヌル アイン, 村木 佑平, 佐藤 祐一
    • 学会等名
      2015年電子情報通信学会総合大会
    • 発表場所
      立命館大学
    • 年月日
      2015-03-10 – 2015-03-13
  • [学会発表] Ⅲ族窒化物薄膜太陽電池における透明下地層用In2O3系薄膜の低抵抗率化2015

    • 著者名/発表者名
      村木 佑平,石崎 翔太, 村上 佳詞, 畠山 穣, 佐藤 祐一
    • 学会等名
      2015年電子情報通信学会総合大会
    • 発表場所
      立命館大学
    • 年月日
      2015-03-10 – 2015-03-13
  • [学会発表] Two-Step Heat-Treatment Effects on Properties of In2O3 Based Transparent Conducting Thin Films Epitaxially Grown on Sapphire Substrate2014

    • 著者名/発表者名
      T. Aoshima, Y. Muraki, and Y. Sato
    • 学会等名
      The 6th World Conf. on Photovoltaic Energy Conversion
    • 発表場所
      京都国際会館
    • 年月日
      2014-11-23 – 2014-11-27
  • [学会発表] 非晶質基板上に作製したGaNおよびInGaN薄膜の結晶性および光学的特性2014

    • 著者名/発表者名
      石崎 翔太,村上 佳詞,松永 竜弥,モハマド イドハム,佐藤 祐一
    • 学会等名
      平成26年度電気関係学会東北支部連合大会
    • 発表場所
      山形大学
    • 年月日
      2014-08-21 – 2014-08-22
  • [学会発表] 非晶質基板上に作製したGaNおよびInGaN薄膜の電気的特性の評価2014

    • 著者名/発表者名
      村上 佳詞,石崎 翔太,松永 竜弥,ヌル アイン,佐藤 祐一
    • 学会等名
      平成26年度電気関係学会東北支部連合大会
    • 発表場所
      山形大学
    • 年月日
      2014-08-21 – 2014-08-22
  • [学会発表] サファイアおよび石英上ZrドープIn2O3薄膜のスパッタ成膜時の酸素分圧に対する諸特性の変化2014

    • 著者名/発表者名
      村木 佑平, 青島 忠彦, 畠山 穣, 佐藤 祐一
    • 学会等名
      平成26年度電気関係学会東北支部連合大会
    • 発表場所
      山形大学
    • 年月日
      2014-08-21 – 2014-08-22

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公開日: 2016-05-27  

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