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2016 年度 研究成果報告書

発光抑制する電気化学フォトニック結晶の作製

研究課題

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研究課題/領域番号 25420707
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 無機材料・物性
研究機関東京工業大学

研究代表者

松下 祥子  東京工業大学, 物質理工学院, 准教授 (50342853)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2017-03-31
キーワードフォトニック結晶 / 電気化学 / リソグラフィー / 3次元 / 酸化チタン
研究成果の概要

光の半導体と呼ばれるフォトニック結晶の光化学反応への応用を念頭に、本研究では、光酸化還元能を持つ酸化チタンによるフルフォトニックバンドギャップ(3次元に完全に光を閉じ込める能力)を有するフォトニック結晶構造の探索を行った。
本研究の成果は大きく3つに分かれる。1)酸化チタン/電解液で構成されるフルフォトニックバンドギャップを持つ構造体を計算上発見し、2)そのような構造体を作製するために酸化チタンのリソグラフィー技術を確立し、3)実際に構造体を作製し1の計算の正しかったことを実験的に確認した、ことである。

自由記述の分野

物理化学

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公開日: 2018-03-22  

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