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ECMP法は、溶融池内に発生させた反重力方向の電磁力により、高入熱、高速条件でも良好な溶接が行えるが、制御パラメータが多く、その適用範囲は限定されている。特に磁場が溶融池の流動および温度分布におよぼす影響は不明な点が多い。
そこで本研究では、磁場等を加えた場合の溶融池表面の流れ場をPIV解析により定量的に解析、温度分布は2色温度計測法で測定し、溶融池表面の流れが温度分布におよぼす影響を明らかにした。また非対称交流磁場を用いたECMP法の有効性を示した。さらに非対称交流磁場による溶融池内の電磁振動により、結晶粒径が小さくなることを示し、本手法が機械的強度の面でも有効であることが示された。
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