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2015 年度 研究成果報告書

ポリマー基板上への迅速なアパタイト膜形成による新規医療デバイスの開発と評価

研究課題

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研究課題/領域番号 25420736
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 複合材料・表界面工学
研究機関上智大学

研究代表者

板谷 清司  上智大学, 理工学部, 教授 (90129784)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
キーワードポリエーテルエーテルケトン / 真空紫外光照射 / 表面改質 / マイクロ波加熱 / 水酸アパタイト / シランカップリング / 接着強化
研究成果の概要

脊椎固定インプラント等への応用が期待されているポリエーテルエーテルケトン(PEEK)上に,生体親和性に優れた水酸アパタイト(Ca10(PO4)6(OH)2:HAp)膜を迅速に形成する条件を検討した。すなわち,高エネルギーの真空紫外光(波長:172 nm)を照射するか,または酸処理して表面改質したPEEK基板をHAp溶解水溶液に浸漬し,さらに100ºC ~140ºCの温度で10 minマイクロ波加熱することによって,迅速にHAp膜を形成させることができた。

自由記述の分野

無機材料化学

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公開日: 2017-05-10  

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