研究課題/領域番号 |
25463045
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研究機関 | 明倫短期大学 |
研究代表者 |
野村 章子 明倫短期大学, 歯科技工士学科, 教授 (80134948)
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研究分担者 |
金谷 貢 新潟大学, 医歯学系, 助教 (40177499)
野村 修一 新潟大学, 医歯学系, 教授 (40018859) [辞退]
佐野 裕子 (佐野正枝) 明倫短期大学, 歯科技工士学科, 教授 (30300099)
伊藤 圭一 明倫短期大学, 歯科技工士学科, 講師 (60389955)
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研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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キーワード | 低エネルギー電子線滅菌 / オートクレーブ滅菌 / 低温ガスプラズマ滅菌 / チタン / 反射電子像 / 元素マッピング |
研究実績の概要 |
平成27年度は,低エネルギー電子線の1回照射による滅菌が純チタン表面におよぼす影響について,オートクレーブ滅菌および低温ガスプラズマ滅菌と比較検討した. 実験方法は,明倫短期大学と浜松ホトニクス株式会社が歯科専用に開発した低エネルギー電子線照射装置 (EES-S-MJC01,HAMAMATSU PHOTONICS K.K. & MEIRIN COLLEGE)を用いて,円盤状純チタンの片面に照射して滅菌した.比較として、オートクレーブ(VSCH-G,サクラ精機)および低温ガスプラズマ装置 (ステラッド100S,ジョンソン・エンド・ジョンソン)を用いた. 反射電子像観察の結果,LEB照射滅菌と低温ガスプラズマ滅菌した試料では表面形態に変化は見られなかったのに対し,オートクレーブ滅菌した試料では表面あれが観察された.一方,元素マッピングからは,いずれの滅菌処理においても試料表面における各元素濃度の変化は見られなかった.検出されたSiは研磨材由来と思われた. 以上から,一回のLEB照射による滅菌操作は,純チタンに表面あれを引き起こさず,オートクレーブと対照的であった.また,本実験では一回のLEB照射滅菌と低温ガスプラズマ滅菌が純チタン表面に及ぼす影響の違いは観察されなかった.これらの研究成果は,平成28年4月に開催される日本歯科理工学会第67回学術大会にて報告する. 臨床においては,純チタンミニプレート等が複数回に渡って滅菌されることがあるので,今後は各滅菌方法に対して,複数回の滅菌処理後の純チタン表面性状を観察していくことが肝要と思われる.
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