2013 年度研究成果報告書

接合界面での反応を用いたp型Ti基透明導電膜の作製

研究課題

研究課題/領域番号	25600040
研究種目	挑戦的萌芽研究
配分区分	補助金
研究分野	ナノ材料工学
研究機関	大阪大学
研究代表者	伊藤和博大阪大学, 接合科学研究所, 教授 (60303856)
連携研究者	大西隆神鋼リサーチ株式会社
研究期間 (年度)	2013-04-01 – 2014-03-31
キーワード	透明導電膜 / Ti基酸化物 / p型伝導 / 界面反応
研究概要	40nm厚のITO膜を有するITO/ガラス基板上にCu(10at.%Ti)合金膜を300nm厚成膜し、400℃で約6時間真空中で熱処理することにより、合金膜中のTiとITO膜が反応し、ITO膜が全て消失してガラス基板上に透明なTi酸化物膜を形成できた。この膜はTiO2を主構成相とするアモルファス膜であった。その透過率は可視光域で約70％を示し、ITO/ガラス膜の約80％と同等であった。その膜のシート抵抗は約1.0×10^3 Ω/sq.とITO膜より約一桁高い値を示し、ホール係数が正のp型伝導を示した。p型伝導の起源は1価の不純物Cuによると考えられる。