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2013 年度 研究成果報告書

金属薄膜における強磁性キュリー温度の歪み応答に関する研究

研究課題

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研究課題/領域番号 25600075
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分補助金
研究分野 応用物性
研究機関東京大学

研究代表者

千葉 大地  東京大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (10505241)

研究分担者 生津 資大  兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (90347526)
研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2014-03-31
キーワードスピントロニクス / 強磁性金属 / キュリー温度 / 歪み応答
研究概要

磁石の特性は、一度作るとなかなか変えることができない。後から自在に変えられると、応用の幅が広がる。歪みを加えると、磁化方向が変わることは良く知られている。しかし、磁力やキュリー温度がどのように変化するかについては、あまり多くの研究がなされていない。本研究では、身近な金属の磁石を用いて薄膜を作り、故意に歪みを加え、そのキュリー温度がどのように変化するかを調べた。

  • 研究成果

    (1件)

すべて その他

すべて 備考 (1件)

  • [備考]

    • URL

      http://chiba-lab.t.u-tokyo.ac.jp/

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公開日: 2015-06-25  

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