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2014 年度 実績報告書

ラシュバ効果によりスピン偏極した表面電子系の磁性原子によるスピンフリップ散乱

研究課題

研究課題/領域番号 25600095
研究機関東京工業大学

研究代表者

平山 博之  東京工業大学, 総合理工学研究科(研究院), 教授 (60271582)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2015-03-31
キーワードラシュバ効果 / 表面 / 電子散乱 / スピン
研究実績の概要

Co単原子によるスピンフリップ散乱を実現するためのスピン偏極した電子状態を持つ、安定な表面として、Si(111)√3x√3-AgとBi原子の2次元表面合金相、およびBi(110)超薄膜を形成し、その成長過程と物性をSTMで調べた。
この結果、Si(111)√3x√3-Ag上にBi原子を供給した計では、基板温度400℃付近で、Ag-Bi合金化が起こり、この結果Ag(111)の表面原子配列中に√3x√3と2x√3のlocal orderをもってBi原子が置換した新表面構造が現われることが明らかになった。
またSi(111)√3x√3-B基板上にBi原子を蒸着して場合には、基板の√3格子とBi(110)格子がそれぞれ対角線方向にcommensurateすることにより、2種類の3階対称軸に沿って伸びる長細い形状のBi(110)超薄膜が発生するtこが明らかになった。またこれら異なった方向を指向するBi(110)島が合体した境界におけるドメイン間の接続を、原子レベルで明らかにした。ただしこの表面の電子状態をSTMを用いたQPI(quasi particle interference)による評価を試みたが、スピン偏極に伴う特徴的なパターンは明瞭に観測されなかった。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2015 2014

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (3件)

  • [雑誌論文] Ultra-thin Bi(110) films on Si(111)√3x√3-B substrates2015

    • 著者名/発表者名
      I. Kokubo, Y. Yoshiike, K. Nakatsuji, H. Hirayama
    • 雑誌名

      Physical Review B

      巻: 91 ページ: 075429(1)-(6)

    • DOI

      http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevB.91.075429

    • 査読あり / オープンアクセス
  • [学会発表] Si(111)√3x√3-B表面上のBi超薄膜の成長と構造(2)2015

    • 著者名/発表者名
      小久保郁也,吉池雄作,中辻寛,平山博之
    • 学会等名
      日本物理学会
    • 発表場所
      早稲田大学
    • 年月日
      2015-03-21 – 2015-03-24
  • [学会発表] A STM study of Bi(110) ultra-thin films grown on Si(111)√3x√3-B surfaces2014

    • 著者名/発表者名
      I. Kokubo, Y. Yoshiike, Y. Aoki, K. Nakatsuji and H. Hirayama
    • 学会等名
      The 7th International Symposium on Surface Science (ISSS-7)
    • 発表場所
      Matue, Japan
    • 年月日
      2014-11-02 – 2014-11-06
  • [学会発表] Si(111)√3x√3-B表面へのBi超薄膜の成長と構造2014

    • 著者名/発表者名
      小久保郁也、吉池雄作、青木悠樹、中辻寛、平山博之
    • 学会等名
      日本物理学会
    • 発表場所
      中部大学
    • 年月日
      2014-09-07 – 2014-09-10

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公開日: 2016-06-01  

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