| 研究実績の概要 |
本研究の目的は、グラフェンやカーボンナノチューブ等の新炭素系材料、シリコンに代表される半導体エピタキシャル膜等の２次元電子系材料の電子状態や光学特性を、強磁場・極低温の多重極限状態において精密に測定することである。具体的には、当機構が所有する大型強磁場マグネット内部で、30 T、4.2 Kの環境下で動作する高効率集光装置を開発し、グラフェン材料の格子－電子相互作用や欠陥、シリコン等の2次元電子系に格子の歪が与える影響などを系統的に研究することである。
平成27年度は、強磁場マグネット用プローブによる単層グラフェン試料のラマン散乱測定の結果(Review of Scientific Instruments, Vol. 85, art. 113111 (2014))について、2015年11月に米国ボストンで行われた国際材料学会(Materials Research Society：MRS)での成果発表と、海外研究者との情報交換を行った。さらに平成27年度は、Review of Scientific Instruments 誌に出版された論文の内容をより詳細に解説する形で、MRS Advances誌に投稿し、受理された。MRS Advances誌はMRSのProceedingsという形式ではあるが、本年度より査読付きのオンラインジャーナルとしてスタートしたものである。現在のところ、First View Articlesの状態であり、論文番号は付与されていないが、本年度中に付与される予定である。
MRS Advances FirstView Articles
http://journals.cambridge.org/action/displayAbstract?fromPage=online&aid=10236666&fileId=S2059852116001973
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