| 研究成果の概要 |
Ag+,Cu+,Li+などを溶かしたイオン液体とカソード電位を印可した電極界面付近における金属イオンの拡散過程をIn-situ型の電気化学光電子分光法等を用いて調べたところ、欠乏層と名付けた金属イオン濃度の極めて低い領域が数百マイクロメートルに渡って観測された。詳しい解析の結果、この領域の中では、粘度とStokes-Einstein式から予想される拡散よりもはるかに速いホッピング様の高速拡散が起きていることが分かり、新たな拡散モデルを構築した。さらに、不活性イオンなどを加えてホール（ホッピングサイト）濃度を制御することにより、電極近傍における金属イオンの拡散速度を制御することに成功した。
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