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膜面垂直スピン系スピンバルブ薄膜に適用可能な反強磁性合金薄膜に関する検討として，bcc構造をベースとするCr-Al合金薄膜に着目し，中でも高い磁気モーメント，高いネール温度が期待できるX相Cr3Al(001)エピタキシャル薄膜の形成と，X相Cr3Al(001)薄膜を用いた垂直交換磁気異方性の発現について検討した．主な結果として，(1) 成長温度を323－673Kにおいて，MgO(001)基板上にX相Cr3Al(001)薄膜がエピタキシャル成長すること，(2) Au/Co/X相Cr3Al積層膜において，垂直磁気異方性と共に垂直交換異方性が発現することを明らかにした．
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