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2013 年度 実績報告書

レーザー反応場における高速化学気相析出のダイナミクスを利用した完全配向成長の実現

研究課題

研究課題/領域番号 25709069
研究種目

若手研究(A)

研究機関東北大学

研究代表者

伊藤 暁彦  東北大学, 金属材料研究所, 助教 (20451635)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
キーワード化学気相析出 / レーザー工学 / セラミックス / コーティング / 配向制御
研究概要

化学気相析出法は、気相からの析出反応により基材をコーティングする手法であり、合成温度や炉内圧力を変化させることで、多彩な構造制御が可能である。被覆性が高いことから、実用コーティング法として幅広く使用される。
本研究課題は、従来の熱プロセスでは難しいが、レーザー反応場で活性化したプロセスに、高過飽和原料蒸気を導入することで、セラミックスコーティングおける気相からの完全配向成長技術を達成し、レーザー反応場での気相成長の学理を追究することを目的とする。具体的には、多結晶基板上への完全c軸配向アルミナ (α-Al2O3) 膜の合成プロセスを確立する。硬質材料であるα-Al2O3は、結晶配向により機械的特性が変化し、実用上ではc軸配向が求められる。c面は原子稠密面であり成長速度が低く、下地層なしでは気相からのc軸成長は不可能とされてきた。
本手法は、高い原料供給量下でも高い反応性を保持できるため、強い配向性を持った膜の高速気相析出が可能である。これまで、α-Al2O3の合成において、供給原料の過飽和度が、配向成長に与える影響が顕著であることを明らかにしてきた。本年度は、多結晶AlN基板上にα-Al2O3を成膜し、合成条件が結晶配向や微細組織に与える影響を明らかにした。配向度を、X線回折強度を基に配向係数 (Texture coefficient) として評価したところ、原料気化温度、成膜温度および炉内圧力を最適化することで、ほぼ完全にc軸配向したα-Al2O3膜を気相から合成できることを明らかにした。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

1: 当初の計画以上に進展している

理由

原料気化温度、成膜温度および炉内圧力を最適化することで、配向係数90%のほぼ完全にc軸配向したα-Al2O3膜を気相から合成できた。

今後の研究の推進方策

各結晶面に完全配向したα-Al2O3膜を多結晶AlN基板上に合成し、結晶配向成長プロセスを議論するためのより多くの基礎的なデータを得る。さらに、電顕による組織観察の面から成長過程を検討する。レーザー反応場における高速化学気相析出・配向成長プロセスを、結晶成長論と照らし合わせながら解明する。

次年度の研究費の使用計画

研究の進捗は当初の計画以上であり、順調に遂行している。次年度使用額が生じた理由は、試料合成に用いる有機金属原料の費用が抑えられたことと、当初本年度に実施する予定であった高飽和度原料安定供給装置およびその場分光観察用光源の導入について、現有装置で十分な成果が得らつつあったことから、来年度以降とした方が研究が円滑に遂行できると判断したためである。これらの経費を次年度に計上することとした。
本研究課題を一段と推進するため、本年度はより多くの試料合成を行う計画であることから、これらの経費を平成26年度に使用する。また、真空装置の部品交換を最小限にしていたため、その分を次年度に実施する必要がある。以上のように、平成26年度請求額とあわせ、平成26年度の研究遂行に使用する予定である。

  • 研究成果

    (22件)

すべて 2014 2013

すべて 雑誌論文 (13件) (うち査読あり 9件) 学会発表 (9件) (うち招待講演 2件)

  • [雑誌論文] Highly (001)-oriented α-Al2O3 films prepared by laser chemical vapor deposition2013

    • 著者名/発表者名
      Y. You, A. Ito, T. Goto
    • 雑誌名

      Materials Letters

      巻: 106 ページ: 11-13

    • DOI

      10.1016/j.matlet.2013.04.113

    • 査読あり
  • [雑誌論文] 高強度レーザー場での高速化学気相析出を利用した高配向結晶成長2013

    • 著者名/発表者名
      伊藤暁彦
    • 雑誌名

      まてりあ

      巻: 52 ページ: 525-529

    • 査読あり
  • [雑誌論文] レーザーCVDによる超硬コーティングの配向制御2013

    • 著者名/発表者名
      伊藤暁彦, 後藤 孝
    • 雑誌名

      金属

      巻: 83 ページ: 596-602

  • [雑誌論文] レーザーCVDによる超電導線材の作製2013

    • 著者名/発表者名
      伊藤暁彦, 後藤 孝
    • 雑誌名

      金属

      巻: 83 ページ: 608-615

  • [雑誌論文] レーザーCVDによるチタン酸バリウム系強誘電体の作製2013

    • 著者名/発表者名
      伊藤暁彦, 後藤 孝
    • 雑誌名

      金属

      巻: 83 ページ: 622-629

  • [雑誌論文] レーザーを用いた超電導テープの高速合成と再生可能エネルギー設備への可能性2013

    • 著者名/発表者名
      伊藤暁彦, 後藤 孝
    • 雑誌名

      MATERIAL STAGE

      巻: 13 ページ: 58-61

  • [雑誌論文] Growth and microstructure of Ba β-alumina films by laser chemical vapor deposition2013

    • 著者名/発表者名
      A. Ito, Y. You, H. Katsui, T. Goto
    • 雑誌名

      Journal of the European Ceramic Society

      巻: 33 ページ: 2566-2661

    • DOI

      10.1016/j.jeurceramsoc.2013.04.003

    • 査読あり
  • [雑誌論文] High-speed growth of YBa2Cu3O7-δ superconducting films on multilayer-coated Hastelloy C276 tape by laser-assisted MOCVD2013

    • 著者名/発表者名
      P. Zhao, A. Ito, T. Kato, D. Yokoe, T. Hirayama, T. Goto
    • 雑誌名

      Superconductor Science and Technology

      巻: 26 ページ: 055020

    • DOI

      10.1088/0953-2048/26/5/055020

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Microstructure and dielectric response of (111)-oriented tetragonal BaTiO3 thick films prepared by laser chemical vapor deposition2013

    • 著者名/発表者名
      D.Y. Guo, A. Ito, R. Tu, T. Goto
    • 雑誌名

      Journal of Asian Ceramic Societies

      巻: 1 ページ: 197-201

    • DOI

      10.1016/j.jascer.2013.05.007

    • 査読あり
  • [雑誌論文] High-Jc YBa2C3O7-δ superconducting film grown by laser-assisted chemical vapor deposition using a single liquid source and its microstructure2013

    • 著者名/発表者名
      P. Zhao, A. Ito, T. Kato, D. Yokoe, T. Hirayama, T. Goto
    • 雑誌名

      Superconductor Science and Technology

      巻: 26 ページ: 095016

    • DOI

      10.1088/0953-2048/26/9/095016

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Rapid deposition of YBCO films by laser CVD and effect of lattice mismatch on their epitaxial growth and critical temperature2013

    • 著者名/発表者名
      P. Zhao, A. Ito, T. Goto
    • 雑誌名

      Ceramics International

      巻: 39 ページ: 7491-7497

    • DOI

      10.1016/j.ceramint.2013.02.098

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Preparation of the c-axis oriented AlN film by laser chemical vapor deposition using a newly proposed Al(acac)3 precursor2013

    • 著者名/発表者名
      Y. You, A. Ito, R. Tu, T. Goto
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 365 ページ: 1-5

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2012.12.034

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effects of laser power on the growth of polycrystalline AlN films by laser chemical vapor deposition method2013

    • 著者名/発表者名
      Y. You, A. Ito, R. Tu, T. Goto
    • 雑誌名

      Surface Coatings and Technology

      巻: 232 ページ: 1-5

    • DOI

      10.1016/j.surfcoat.2013.04.043

    • 査読あり
  • [学会発表] レーザー CVD による β-SiC 膜の高速合成と成膜雰囲気の影響2014

    • 著者名/発表者名
      橋本龍真, 伊藤暁彦, 後藤孝
    • 学会等名
      日本セラミックス協会 2014年年会
    • 発表場所
      東京 (慶應義塾大学)
    • 年月日
      20140317-20140319
  • [学会発表] レーザー CVD による Al2O2-ZrO2系ナノコンポジット膜の合成2014

    • 著者名/発表者名
      金田優, 伊藤暁彦, 後藤孝
    • 学会等名
      日本セラミックス協会 2014年年会
    • 発表場所
      東京 (慶應義塾大学)
    • 年月日
      20140317-20140319
  • [学会発表] Laser Chemical Vapor Deposition for High-Jc YBa2Cu3O7-δ films2014

    • 著者名/発表者名
      Akihiko Ito, Pei Zhao, Takashi Goto
    • 学会等名
      Electronic Materials and Applications 2014 (EMA2014)
    • 発表場所
      Orlando, FL, US
    • 年月日
      20140122-20140124
    • 招待講演
  • [学会発表] レーザーCVD による Al2O3および TiO2膜の作製とレーザー種が生成相と微細構造に与える影響2014

    • 著者名/発表者名
      高明, 伊藤暁彦, 後藤孝
    • 学会等名
      第52回セラミックス基礎科学討論会
    • 発表場所
      名古屋市 (ウインクあいち)
    • 年月日
      20140109-20140110
  • [学会発表] レーザーCVDによる SiCの高速成膜と微細組織について2014

    • 著者名/発表者名
      橋本龍真, 伊藤暁彦, 後藤孝
    • 学会等名
      第52回セラミックス基礎科学討論会
    • 発表場所
      名古屋市 (ウインクあいち)
    • 年月日
      20140109-20140110
  • [学会発表] レーザーCVDにより合成した Al2O3-ZrO2系酸化物膜の微細構造2014

    • 著者名/発表者名
      金田優, 伊藤暁彦, 後藤孝
    • 学会等名
      第52回セラミックス基礎科学討論会
    • 発表場所
      名古屋市 (ウインクあいち)
    • 年月日
      20140109-20140110
  • [学会発表] High-speed Deposition of Superconductor Film on a Metal Tape by Laser Chemical Vapor Deposition2013

    • 著者名/発表者名
      Takashi Goto, Pei Zhao, Akihiko Ito
    • 学会等名
      Materials Science & Technology 2013 (MS&T'13)
    • 発表場所
      Quebec, Canada
    • 年月日
      20131027-20131031
    • 招待講演
  • [学会発表] レーザーCVDによるSiCの高速成膜と成膜温度が微細組織に与える影響2013

    • 著者名/発表者名
      橋本龍真, 伊藤暁彦, 後藤孝
    • 学会等名
      平成25年度日本セラミックス協会東北北海道支部研究発表会
    • 発表場所
      長岡市 (長岡グランドホテル)
    • 年月日
      20131024-20131025
  • [学会発表] レーザーCVDによるAl2O3-ZrO2系酸化物膜の合成と微細構造2013

    • 著者名/発表者名
      金田優, 伊藤暁彦, 後藤孝
    • 学会等名
      平成25年度日本セラミックス協会東北北海道支部研究発表会
    • 発表場所
      長岡市 (長岡グランドホテル)
    • 年月日
      20131024-20131025

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公開日: 2015-05-28  

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