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本研究では、イミダゾール基を有するシリル化剤で表面修飾した多孔質基材上にZIF-8の不均一核生成と優先的な結晶成長を誘導することを試みた。また、使用する金属塩種が膜構造ならびに気体分離特性に及ぼす影響を調べた。酢酸亜鉛を用いることにより、酢酸イオンが2-メチルイミダゾールと配位競合し、ZIF-8の錯形成・結晶成長を制御できることを実証した。従来法では必須であった種結晶の塗布工程を省略したZIF-8の製膜手法を確立した。本製膜手法は水溶媒を用いた室温合成であることを特長とし、従来法に比べて製膜工程における環境負荷低減が期待できる。
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