|
シリコンナノシートは，ポストグラフェン新材料として注目されている．しかしながら，光・電子デバイス応用に向けて，シリコンナノシートの材料作製技術，微細加工技術，デバイス作製技術等に関する知見は十分得られているとはいえない．本研究では，シリコンナノシートの大面積形成技術の開発と，シリコンナノシートの局所改質によるナノ構造作製技術の開発を目的とした．本研究では，大面積シリコンナノシート作製技術を2つ提案し，ミリメートルサイズのシリコンナノシートを作製することができた．さらに，走査プローブリソグラフィ技術を用い，シリコンナノシートの前駆体薄膜への局所構造改質を実施しナノ構造形成を確認した．
|
