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2014 年度 実施状況報告書

アルカリ現像液を不要とする水溶性極端紫外光レジスト材料によるグリーン微細加工技術

研究課題

研究課題/領域番号 25790036
研究機関富山県立大学

研究代表者

竹井 敏  富山県立大学, 工学部, 准教授 (90580069)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
キーワードレジスト / 微細加工 / リソグラフィ / 植物の高度利用 / バイオマス / 水現像 / 水溶性 / デンプン
研究実績の概要


糖鎖化合物を波長13.5nmの極端紫外光の吸収係数とナノパターン加工性を損なうことなく、デンプンから酵素分解・抽出・精製・高分子側鎖の誘導化し、アルカリ現像液を使用しない水溶性環境配慮型極端紫外光レジスト材料の第二世代品を合成した。合成した複数のレジスト材料の膜分析の基礎評価と共に、一部で微細加工の先行評価を行った。
レジスト加工形状、水の水膨潤性、水現像特性、水の浸透速度、表面新疎水特性、極端紫外光による硬化性、及び膜収縮性に対する設計要素の依存性を明確化し、鍵となる要素因子の解明研究を開始した。微細加工特性(レジスト加工形状・解像性・現像特性・膜収縮性・密着・ぬれ性・機械的特性・硬化性等)の評価は、分光エリプソ、露光装置、電子顕微鏡、非接触光干渉式膜厚計、接触角計、ナノインデンター、及び粘弾性測定装置により測定を実施した。
得られた研究成果は学術論文3報、国際会議4件、及び講演会・展示会・新聞等5件にて公開した。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

1: 当初の計画以上に進展している

理由

糖鎖化合物を波長13.5nmの極端紫外光の吸収係数とナノパターン加工性を損なうことなく、デンプンから酵素分解・抽出・精製・高分子側鎖の誘導化し、アルカリ現像液を使用しない水溶性環境配慮型極端紫外光レジスト材料の第二世代品の合成法が確立できた。 得られた研究成果が定期的に発表でき、社会経済に貢献すべく本研究の産学官連携が実施中ため。

今後の研究の推進方策

前年度の結果に基づき、主に原料合成と基礎物性について検討を行うと共に、その詳細な解析と極端紫外光による微細加工評価を行う。架橋密度に対するレジスト加工形状・解像性・加工精度・リワーク性の依存性に主眼を置き、グルコース骨格を主原料に用いたレジスト材料の極端紫外光による糖鎖化合物を、10nmオーダーのパターン加工性における適用可能性を明らかにする。
研究成果は国際論文誌、国内外学会、書籍、解説等で毎年2件以上発表する。
社会経済に迅速に貢献すべく、研究を加速されるため、新たな研究技術者の雇用資金の獲得を、産学官連携や競争的研究助成の採択により進める。

次年度使用額が生じた理由

大学業務のため、予定していた国際会議への参加ができなかったため、旅費を中心として残金が生じたため。

次年度使用額の使用計画

次年度の国際会議への発表等旅費に使用する予定である。

  • 研究成果

    (12件)

すべて 2015 2014

すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件、 謝辞記載あり 2件) 学会発表 (9件) (うち招待講演 2件)

  • [雑誌論文] Eco-friendly, water-repellent, light-transparent film derived from psicose using nanoimprint lithography2015

    • 著者名/発表者名
      Satoshi Takei, Makoto Hanabata
    • 雑誌名

      Materials Lett.

      巻: 143 ページ: 197-200

    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Approach of natural polysaccharide to green resist polymers for EUV lithography2014

    • 著者名/発表者名
      Satoshi Takei, Akihiro Oshima, Tomoko G. Oyama, Kenta Ito, Kigenn Sugahara, Miki Kashiwakura, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Makoto Hanabata
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 53 ページ: 116505

    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Planarizing material for reverse-tne step and flash imprint lithography2014

    • 著者名/発表者名
      Tsuyoshi Ogawa, B. Michael Jacobsson, Ryan Deschner, William Bell, Michael W. Lin, Yuji Hagiwara, Satoshi Takei, Makoto Hanabata, and C. Grant Willson
    • 雑誌名

      J. Micro/Nanolithogr. MEMS MOEMS

      巻: 13 ページ: 031302

    • 査読あり
  • [学会発表] Nanoimprint lithography for green water-repellent film derived from biomass with high-light transparency2015

    • 著者名/発表者名
      Satoshi Takei
    • 学会等名
      Proc. SPIE
    • 発表場所
      San Jose USA
    • 年月日
      2015-02-22 – 2015-02-26
  • [学会発表] High-sensitivity green resist material with organic solvent-free spin-coating and tetramethylammonium hydroxide-free water-developable processes for EB and EUV lithography2015

    • 著者名/発表者名
      Satoshi Takei
    • 学会等名
      Proc. SPIE
    • 発表場所
      San Jose USA
    • 年月日
      2015-02-22 – 2015-02-26
  • [学会発表] 光・電子機能性材料の開発2015

    • 著者名/発表者名
      竹井 敏
    • 学会等名
      高分子学会北陸支部
    • 発表場所
      富山
    • 年月日
      2015-02-10
    • 招待講演
  • [学会発表] グリーンリソグラフィを用いた植物系機能性材料の開発2015

    • 著者名/発表者名
      竹井 敏
    • 学会等名
      Nano tech 2015 第14回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2015-01-28 – 2015-01-30
  • [学会発表] 水溶性微細加工用レジスト材料の極端紫外光EUV応答システムの開発2015

    • 著者名/発表者名
      竹井 敏
    • 学会等名
      新学術領域研究「高次複合光応答分子システムの開拓と学理の構築 第二回シンポジウム
    • 発表場所
      大阪
    • 年月日
      2015-01-24
  • [学会発表] バイオマス原料を用いた微細加工用レジスト材料の開発2014

    • 著者名/発表者名
      竹井 敏
    • 学会等名
      富山県新世紀産業機構 とやまナノテク国際シンポジウム
    • 発表場所
      富山
    • 年月日
      2014-12-04
  • [学会発表] 高植物由来率のナノ微細加工用フィルム材料2014

    • 著者名/発表者名
      竹井 敏
    • 学会等名
      第37回UV/EB研究会、大阪ニュークリアサイエンス協会
    • 発表場所
      大阪
    • 年月日
      2014-09-12
    • 招待講演
  • [学会発表] Organic solvent-free sugar-based nanopatterning transparency material derived from biomass for eco-friendly optical biochips using green lithography2014

    • 著者名/発表者名
      Satoshi Takei
    • 学会等名
      Proc. SPIE
    • 発表場所
      brussels belgium
    • 年月日
      2014-04-13 – 2014-04-17
  • [学会発表] Approach of pullulan derivatives to resist polymers for green lithography in eco-friendly optical NEMS and MEMS2014

    • 著者名/発表者名
      Satoshi Takei
    • 学会等名
      Proc. SPIE
    • 発表場所
      brussels belgium
    • 年月日
      2014-04-13 – 2014-04-17

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公開日: 2016-06-01  

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