研究課題
ナノ・マイクロ微細加工用レジスト材料の設計技術を応用し、有機溶媒とアルカリ現像液を不要とする水溶性極端紫外光レジスト材料を用いた微細加工グリーン化技術の開発を目標とした。目的の実現のために、好適な極端紫外光の吸収係数、環構造による低い膜収縮率、優れた水溶性と水現像性を維持した糖鎖化合物の機能化材料設計の技術、及び極端紫外光による微細加工のプロセス要素を研究した。糖鎖化合物の化学合成を行い、設計要素(糖の分子構造・分子量・水酸基濃度等)とプロセス要素(照射量・焼成温度・現像時間・現像温度)が微細加工特性にどのように関係するのかを評価した。原料合成・抽出・精製・高分子側鎖の誘導化・クリーンルーム下でのレジスト材料の混合・スピン塗布・成膜（CVD）・電子線照射装置・分析装置（GPC、GC、FTIR、接触角測定計、UV吸収計、紫外分光エリプソ、非接触膜厚計、ナノインデンター、簡易SEM、走査プローブ顕微鏡、マイクロスコープ等）を用いて実施した。前年度の結果に基づき、主に原料合成と基礎物性について検討を行うと共に、その詳細な解析と極端紫外光による微細加工評価を行った。架橋密度に対するレジスト加工形状・解像性・加工精度・リワーク性の依存性に主眼を置き、グルコース骨格を主原料に用いた糖鎖化合物が有機溶媒とアルカリ現像液を不要とする水溶性極端紫外光レジスト材料として、適用可能性を学術的に示した。最終年度に得られた研究成果を、英語学術論文 4件、国際会議発表 3件、及び新聞発表 1件等で公開した。
すべて 2016 2015 その他
すべて 国際共同研究 (1件) 雑誌論文 (4件) (うち査読あり 4件、 オープンアクセス 1件、 謝辞記載あり 3件) 学会発表 (4件) (うち国際学会 4件) 図書 (1件) 産業財産権 (1件)
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