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2013 年度 実施状況報告書

一次相転移系遷移金属酸化物の電界相制御

研究課題

研究課題/領域番号 25790051
研究種目

若手研究(B)

研究機関独立行政法人産業技術総合研究所

研究代表者

渋谷 圭介  独立行政法人産業技術総合研究所, 電子光技術研究部門, 研究員 (00564949)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
キーワード二酸化バナジウム / 酸化物エピタキシャル薄膜 / 電界効果トランジスタ
研究概要

多彩な物性を示す遷移金属酸化物の応用に向けて、電場・磁場・光・圧力などの外的刺激による電子相制御が重要となってきている。しかしながら、不揮発性と可逆動作を伴う相制御の研究は初期段階にあり、その理解は未だ不十分である。本研究では、遷移金属酸化物の不揮発かつ可逆的な電子相制御の確立を目的としている。この目標達成のために一次相転移物質を使用する。これは、構造変化を伴うことで基底状態と遷移状態の双安定化が達成されるためである。特に、電界による一次相転移の制御技術の確立とその原理解明に主眼を置き、数ボルトの低電圧による光学特性の可逆的巨大応答を目指す。
1.新たに開発したフッ化マグネシウム(MgF2)基板上に高品質なエピタキシャル二酸化バナジウム(VO2)薄膜を堆積することに成功した。フッ化マグネシウム基板は、従来から用いられている二酸化チタン(TiO2)基板と比較して光学特性が優れているため、光学デバイスの開発に適している。また、フッ化マグネシウム基板は二酸化チタン基板より大きな歪みを二酸化バナジウム薄膜に掛けることができ、金属‐絶縁体転移の歪み制御という観点からも重要である。
2.2. 二酸化バナジウムの電界効果トランジスタ構造を作製し、ゲート電圧によって二酸化バナジウムの透過率が大幅に変調することに成功した。二酸化バナジウムはサーモクロミック材料としての開発が進められているが、エレクトロクロミック特性を利用した能動デバイスとしての応用に本研究が役立つものと期待する。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

目標であった電界効果トランジスタの作製と電界誘起相転移の観測に成功した。また、二酸化バナジウムにおける電界効果誘起相転移の光学的評価・結晶構造評価は一部前倒しで研究を遂行した。

今後の研究の推進方策

電界効果誘起相転移の原理については、未知数の部分も多く、静電的原理・化学反応による現象の両方が提案されている。今後は、電子相転移前後での組成分析等の手法も取り入れメカニズム解明についても注力する。

次年度の研究費の使用計画

研究実施計画の一部に変更が生じたため。
分析依頼費と電気特性評価装置の購入に充てる予定である。

  • 研究成果

    (9件)

すべて 2014 2013

すべて 雑誌論文 (4件) (うち査読あり 4件、 謝辞記載あり 1件) 学会発表 (4件) (うち招待講演 1件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Epitaxial growth and structural transition of VO2/MgF2 (001)2014

    • 著者名/発表者名
      Keisuke Shibuya and Akihito Sawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 53 ページ: 05FF03-1, 3

    • DOI

      10.7567/JJAP.53.05FF03

    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Gate-tunable gigantic lattice deformation in VO22014

    • 著者名/発表者名
      D. Okuyama, M. Nakano, S. Takeshita, H. Ohsumi, S. Tardif, K. Shibuya, T. Hatano, H. Yumoto, T. Koyama, H. Ohashi, M. Takata, M. Kawasaki, T. Arima, Y. Tokura, Y. Iwasa
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 104 ページ: 023507-1,5

    • DOI

      dx.doi.org/10.1063/1.4861901

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Fabrication and Raman scattering study of epitaxial VO2 films on MgF2 (001) substrates2013

    • 著者名/発表者名
      Keisuke Shibuya, Jun’ya Tsutsumi, Tatsuo Hasegawa, Akihito Sawa
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 103 ページ: 021604-1,4

    • DOI

      dx.doi.org/10.1063/1.4813442

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Infrared-sensitive electrochromic device based on VO22013

    • 著者名/発表者名
      M. Nakano, K. Shibuya, N. Ogawa, T. Hatano, M. Kawasaki, Y. Iwasa, Y. Tokura
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 103 ページ: 153503-1,4

    • DOI

      dx.doi.org/10.1063/1.4824621

    • 査読あり
  • [学会発表] MgF2基板上に作製したエピタキシャルVO2薄膜の金属-絶縁体転移2014

    • 著者名/発表者名
      渋谷 圭介、澤 彰仁
    • 学会等名
      応用物理学会
    • 発表場所
      青山学院大学(相模原)
    • 年月日
      20140317-20140320
  • [学会発表] Metal-Insulator Transitions in VO2 Epitaxial Thin Films on MgF2 Substrates2013

    • 著者名/発表者名
      Keisuke Shibuya, Akihito Sawa
    • 学会等名
      Workshop on Oxide Electronics 20
    • 発表場所
      National University of Singapore(シンガポール)
    • 年月日
      20130922-20130925
  • [学会発表] Impact of epitaxial strain on the metal-insulator transitions in VO2 thin films on MgF2 substrates2013

    • 著者名/発表者名
      Keisuke Shibuya, Akihito Sawa
    • 学会等名
      2013 JSAP-MRS Joint Symposia
    • 発表場所
      同志社大学(京都)
    • 年月日
      20130916-20130920
  • [学会発表] Carrier doping and external field control of phase transition in epitaxial VO2 thin films2013

    • 著者名/発表者名
      Keisuke Shibuya
    • 学会等名
      Korean Physical Society 2013 Spring Meeting
    • 発表場所
      Daejoen(韓国)
    • 年月日
      20130424-20130426
    • 招待講演
  • [産業財産権] 温度センサ2013

    • 発明者名
      渋谷圭介、澤彰仁、富岡泰秀、宮崎憲一、和戸弘幸、鈴木愛美
    • 権利者名
      渋谷圭介、澤彰仁、富岡泰秀、宮崎憲一、和戸弘幸、鈴木愛美
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      特願2013-201759
    • 出願年月日
      2013-09-27

URL: 

公開日: 2015-05-28  

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