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2014 年度 研究成果報告書

高分子強誘電体極薄膜を用いた新規強誘電性トンネル接合素子の創製

研究課題

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研究課題/領域番号 25790053
研究種目

若手研究(B)

配分区分基金
研究分野 薄膜・表面界面物性
研究機関東京理科大学 (2014)
東北大学 (2013)

研究代表者

中嶋 宇史  東京理科大学, 理学部, 講師 (60516483)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2015-03-31
キーワード強誘電体薄膜 / 高分子 / 抵抗変化 / 不揮発性メモリ
研究成果の概要

本研究は、自発分極の双安定性によって現れる分極誘起抵抗変化現象に着目した新しいメモリ素子の実現を目的とし、その動作原理の基礎的理解と特性向上に関連した研究を進めたものである。強誘電性の発現に際して基板種の制限を受け難い高分子強誘電体VDF/TrFE共重合体に着目し、膜厚10nm以下の超薄膜試料を異なる電極種上に作製し、その電気伝導性の評価を行うことで、金属電極種の違いが分誘起極抵抗変化効果に与える影響について検討を行った。作製した薄膜において分極反転に伴う抵抗変化が10~100倍現れることを確認しており、抵抗変化を利用した不揮発性メモリ素子への応用可能性を実験的に示すことができたと結論付けた。

自由記述の分野

強誘電体、高分子電気物性

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公開日: 2016-06-03  

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