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2016 年度 研究成果報告書

第一原理GW計算を用いた低密度キャリア系の電子構造研究

研究課題

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研究課題/領域番号 25800200
研究種目

若手研究(B)

配分区分基金
研究分野 物性Ⅱ
研究機関九州工業大学

研究代表者

中村 和磨  九州工業大学, 大学院工学研究院, 准教授 (60525236)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2017-03-31
キーワード第一原理計算 / 多体摂動計算 / GW計算 / 遷移金属化合物 / 有機化合物 / 低エネルギープラズモン励起 / プラズマロン状態
研究成果の概要

本申請課題では、第一原理GW計算を用いて、物質の電子構造に対するプラズモン励起 (集団電荷励起) の効果を調べる。プラズモンは長距離クーロン相互作用の下で相互作用する電子系の低キャリア濃度領域において発生するが、ドーピング量が小さいほど、励起エネルギーは低下し、低密度キャリア領域では、低エネルギー物性を支配する。固体表面・界面に対する電界誘起キャリアドーピング法、希薄磁性半導体合成技術の進展によって、極低密度キャリア系が実現・制御可能となっており、基礎理論構築が望まれる。大規模並列化された第一原理GWコードを用いて、この系の物質科学展開のための基礎的知見を得る。

自由記述の分野

物性理論 第一原理計算

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公開日: 2018-03-22  

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