従来の大気圧低温プラズマジェットはスポット状の吹き出しプラズマとなっており、プロセス面積の大規模化には限界があった。本研究では、従来のマイクロ波プラズマにおける導波管の代わりにマイクロストリップ線路を用いた新規のマイクロ波プラズマジェットの開発を行った。マイクロストリップ線路とアレイ技術を用いることにより、大気圧における広い幅のプラズマジェットを生成する技術を実現した。大気圧においても低温、かつ空間的一様なプラズマを生成しており、CVD用プラズマ源として優れた放電特性を示している。これを用いたグラフェン膜合成用高圧CVDシステムを開発した。
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