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2015 年度 研究成果報告書

その場TEM測定による10nm世代Siトランジスタの移動度に及ぼす歪み効果の解明

研究課題

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研究課題/領域番号 25820336
研究種目

若手研究(B)

配分区分基金
研究分野 無機材料・物性
研究機関国立研究開発法人物質・材料研究機構

研究代表者

湯 代明  国立研究開発法人物質・材料研究機構, 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点, 研究員 (50646271)

研究期間 (年度) 2013-04-01 – 2016-03-31
キーワードelectron microscopy / nanowire transitors / mechanical properties / electrical properties
研究成果の概要

一次元ナノ構造体の電気デバイスが製造されており、それらの機械的および電気的特性は、その場TEM観察法を使用して研究されてきた。シリコンナノワイヤの電子移動度は、引張ひずみ3.4%の下で3.8倍に向上させることができ、14.7%までの曲げひずみの下では2.7倍直線的かつ可逆的に増加させることができた。加うるに提示されたようなキラリティー依存の輸送特性を持ち、約1ナノメートル径を有する単層カーボンナノチューブのトランジスタ及び真空管の製造に成功している。さらに、極限的に高い柔軟性を示し、高性能で柔軟な電子デバイスのための道を切り開くため、原子スケールでの薄い二次元結晶の変形が研究されてきた。

自由記述の分野

Nanomaterials

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公開日: 2017-05-10  

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