| 研究課題/領域番号 |
25820376
|
|---|
| 研究機関 | 東京工業大学 |
|---|
研究代表者 |
渡邊 玄 東京工業大学, 理工学研究科, 助教 (70361780)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2017-03-31
|
| キーワード | 連続鋳造用モールドフラックス / 結晶化 / カスピダイン / CCT図 |
|---|
| 研究実績の概要 |
これまでの研究では等温保持によるTTT図の作成を行なってきたが，連続鋳造機内でのスラグフィルム形成は水冷鋳型による冷却により外周から冷却によってなされるため，厳密には連続冷却による結晶生成挙動を評価する必要がある。そこで，26年度では異なる熱履歴を与えた際の結晶化挙動の比較として，冷却速度を変化させて連続冷却による結晶形態の評価を行った。
連続冷却測定において，オラストナイト(CaO.SiO2)は加熱用熱電対の周囲から異質核生成することが多く，カスピダイン(3CaO.2SiO2.CaF2)は均質核生成として等軸晶が生成しやすいことがわかった。生成した結晶はデンドライト状であり，2次のデンドライトアーム間隔(DASII)を測定し，冷却速度との相関を確認した。冷却速度が遅くなるほどDASIIの間隔は大きくなる傾向があり，岡本の式として提案されているDASIIは冷却速度の-1/2乗に比例することが確認された。デンドライト全体の太さは岡本の式では記述できないが，冷却速度が遅くなるとデンドライトの太さが太くなる傾向があることが確認できた。
|
| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
3: やや遅れている
理由
申請時の計画では，①実用フラックスのTTT図と結晶化挙動の評価，②中田の報告に基づく冷却速度と結晶の形状の評価を計画していた。しかしながら，①については少数のフラックスしか検証できていないこと，②については中田が指摘しているように，岡本の関係が成立することは確認できたが，本来目標としていた連続鋳造用スラグフィルムの組織形成まで考察できるほどの結果を得ることがで来ておらず，引き続き広い組成範囲での検証が必要であると判断したため，やや遅れていると評価した。
|
| 今後の研究の推進方策 |
申請当初の計画では，27年度は26年度の内容の継続と，浸漬によるスラグフィルム形成実験を計画していた。前者の継続内容に関しては特に変更はない。一方，浸漬実験での使用を考えていた研究室所有の高周波誘導炉は廃棄されてしまったため，実験時の試料の加熱は電気抵抗炉が必要になる。しかしながら，電気抵抗炉での浸漬実験に関しては当研究室において過去に行った事例があるため，そちらを参考にして研究を遂行する。
|
| 次年度使用額が生じた理由 |
いくつかのセラミックス系の消耗品が年度内での交換の必要がなかったこと。(来年度には劣化し，寿命を迎えるので交換の必要がある) 投稿論文が年度内に完成しなかったため，投稿費用として計上した分が未使用であること。国際会議の実施が平成27年度であったため。
|
| 次年度使用額の使用計画 |
浸漬実験に必要な高周波誘導炉が廃棄されたため，電気抵抗炉による浸漬実験用の炉を作成するのに利用する。上記の未達成の論文の投稿費用と，平成27年5月に開催されるICS2015の参加費と出張旅費の支払に一部使用する。
|
