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2014 年度 実績報告書

多機能融合・省電力エレクトロニクスのためのSn系Ⅳ族半導体の工学基盤構築

研究課題

研究課題/領域番号 26220605
研究機関名古屋大学

研究代表者

財満 鎭明  名古屋大学, エコトピア科学研究所, 教授 (70158947)

研究分担者 竹中 充  東京大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (20451792)
齋藤 晃  名古屋大学, エコトピア科学研究所, 准教授 (50292280)
研究期間 (年度) 2014-05-30 – 2019-03-31
キーワード半導体物性 / 結晶工学 / 表面・界面物性 / ゲルマニウム錫 / エネルギーバンド / 結晶成長 / 集積回路 / Ⅳ族半導体
研究実績の概要

本研究では、省電力デバイスとして注目されるトンネルFETや光電融合多機能デバイスに向けたSn系IV族混晶の結晶成長技術およびエネルギーバンド構造制御技術の開発を行っている。本年度に得られた主要な成果を以下に挙げる。
(1)分子線エピタキシー(MBE)成長時における分子状あるいは原子状水素供給によって、GeSn層の結晶性を改善できることを実証した。特に原子状水素供給によって、GeSn層のX線回折プロファイルの散漫散乱が最も小さくなり、表面平坦性も大きく向上することを見出した。
(2)硬X線光電子分光法および分光エリプソメトリー法を用いて、GeSiSn/Geヘテロ接合構造におけるエネルギーバンド構造を明らかにした。SiおよびSn組成の増加によって、価電子帯端および伝導帯端双方に適切なエネルギーバンドオフセットを有するタイプI型のバンド構造を形成できることを実証した。
(3)有機金属原料を用いた化学気相成長法によって形成したGeO2絶縁膜は、従来の熱酸化により作製したGeO2絶縁膜よりも、化学的に安定な構造を含んでおり、水や他の化学原料への暴露に対する耐性が高く、high-k/Ge構造における界面中間層として期待できることが示された。
(4)ナノビーム電子回折をもちいてGeSn/Geフィン構造の断面試料を作製し、[110]方向(フィンを横切る方向)および[001]方向(基板垂直方向)の歪み分布を計測した。その結果、[110]方向には約0.7%の圧縮歪みが印加され、[001]方向には約0.8%の引っ張り歪みが印加されていることが判明した。
(5)ウェハボンディングによりGe基板を熱酸化Si基板に貼り合せた後、スマートカット手法によりGe基板を剥離することで、Ge-on-Insulator(GOI)基板の作製に成功した。Ge層の残留キャリアは1E16cm-3以下、900cm2/Vs以上のキャリア移動度を達成した。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

水素導入MBEによるGeSnエピタキシャル層の結晶性改善や有機原料化学気相成長(MOCVD)法による高い結晶性を有するGeSn層成長の成功など、結晶成長技術の開発は順調に進展している。また、GeSiSn/Ge界面のエネルギーバンド構造がタイプI型であることをはじめて実証するなど、デバイス構造の設計に貢献しうる成果が得られている。
ナノビーム電子回折法をもちいたサブナノメーター分解能での2次元歪み分布の可視化手法を確立し、半導体ナノ構造への適用まで完了しており、概ね順調である。
これまでの手法では、Ge基板薄層化の均一性に問題があったが、ウェハボンディングとスマートカット技術を組み合わせることで、数100 nm程度の膜厚を持つGe層をSi基板上に貼り合せる技術の目途がたった。これにより高品質GOI基板を再現性良く作製可能になりつつあり、順調に研究は進展している。

今後の研究の推進方策

n型GeSn層形成のためのSb in-situドーピングの技術を構築し、デバイス構造形成に必要なGeSn層の高品質pn接合形成を実証する。また、GeSiSn/GeSnヘテロ構造における電気伝導特性や光学特性を評価し、TFETや光電デバイス構築に必要な知見を獲得する。特に元素組成やひずみ構造がエネルギーバンドギャップや電子物性に及ぼす効果を検証する。
断面試料作製にともなう試料薄片化で懸念される歪み緩和について、構造異方性に起因する弾性定数の異方性を考慮することにより対処できることが期待される。厚さが異なる断面試料をもちいた歪み緩和の検討を進める。
貼り合せGOI基板のさらなる高品質化に向けた研究を進める。アニール条件やCMP条件などをより最適化することで、バルクGe基板に近い結晶品質を実現する。また、GOI基板上へのGeSn結晶成長の検討を進め、電気的、光学的物性の評価を行う。

  • 研究成果

    (52件)

すべて 2015 2014 その他

すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 5件、 謝辞記載あり 1件) 学会発表 (42件) (うち招待講演 8件) 図書 (1件) 備考 (3件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Non-uniform depth distributions of Sn concentration induced by Sn migration and desorption during GeSnSi layer formationEpitaxial Formation of Ni Germanide on Ge(001) Substrate by Reactive Deposition2015

    • 著者名/発表者名
      N. Taoka, T. Asano, T. Yamaha, T. Terashima, O. Nakatsuka, I. Costina, P. Zaumseil, G. Capellini, S. Zaima, and T. Schroeder
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: 106 ページ: 061107

    • DOI

      10.1063/1.4908121

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Formation of chemically stable GeO2 on the Ge surface with pulsed metal?organic chemical vapor deposition2015

    • 著者名/発表者名
      S. Shibayama, T. Yoshida, K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: 106 ページ: 061107

    • DOI

      10.1063/1.4908066

    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Influence of Interface Structure on Electrical Properties of NiGe/Ge Contacts2015

    • 著者名/発表者名
      Y. Deng, O. Nakatsuka, M. Sakashita, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 54 ページ: 05EA01

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Coherence of a spin-polarized electron beam emitted from a semiconductor photocathode in a transmission electron microscope2014

    • 著者名/発表者名
      M. Kuwahara, S. Kusunoki, Y. Nambo, K. Saitoh, X. G. Jin, T. Ujihara, H. Asano, Y. Takeda, N. Tanaka
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 105 ページ: 193101

    • DOI

      10.1063/1.4901745

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Strain Measurement of 50-nm-MOSFET by Nanobeam Electron Diffraction2014

    • 著者名/発表者名
      K. Doi, H. Nakahara, K. Saitoh, N. Tanaka
    • 雑誌名

      AMTC Letters

      巻: 4 ページ: 276

    • 査読あり
  • [学会発表] 高Sn濃度SiSnの形成とバンド構造 ~ 直接遷移構造化を目指して ~2015

    • 著者名/発表者名
      黒澤昌志, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      電子情報通信学会 有機エレクトロニクス研究会(OME), シリコン材料・デバイス研究会(SDM) 共催
    • 発表場所
      大濱信泉記念館多目的ホール(沖縄)
    • 年月日
      2015-04-29 – 2015-04-30
    • 招待講演
  • [学会発表] Electrically-Active Defects in Ge1-xSnx Epitaxtial Layer2015

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, T. Asano, M. Sakashita, O. Nakatsuka, S. Zaima
    • 学会等名
      7th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides
    • 発表場所
      Nagoya
    • 年月日
      2015-03-26 – 2015-03-31
  • [学会発表] GGA+U法によるSi1-xSnx材料物性の精密予測2015

    • 著者名/発表者名
      長江祐樹, 黒澤昌志, 加藤元太, 柴山茂久, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [学会発表] Ge1-xSnxエピタキシャル層中の電気的活性な欠陥の挙動2015

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, 浅野孝典, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [学会発表] 原子状水素供給がGe1−xSnxエピタキシャル層の結晶性に及ぼす効果2015

    • 著者名/発表者名
      藤浪俊介, 浅野孝典, 保崎航也, 小山剛史, 中塚理, 岸田英夫, 財満鎭明
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [学会発表] Ge1−xSnxエピタキシャル層中の欠陥の電気的特性2015

    • 著者名/発表者名
      浅野孝典, 柴山茂久, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [学会発表] 熱電素子応用を目指したGeSn単結晶薄膜の熱物性評価2015

    • 著者名/発表者名
      黒澤昌志, 福田雅大, 高橋恒太, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [学会発表] GeSn多結晶薄膜の進展 〜3D-ICを目指して〜2015

    • 著者名/発表者名
      黒澤昌志, 池上浩, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
    • 招待講演
  • [学会発表] Al2O3/Ge構造に対する熱酸化にともなうGe表面からのGe原子放出過程2015

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 中嶋薫, 坂下満男, 中塚理, 木村健二, 財満鎭明
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [学会発表] リン酸溶液中レーザドーピングにおけるGe基板面方位の効果2015

    • 著者名/発表者名
      高橋恒太, 黒澤昌志, 池上浩, 柴山茂久, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [学会発表] 金属/Ge界面への高Sn組成Ge1−xSnx層挿入によるショットキー障壁高さの低減2015

    • 著者名/発表者名
      鈴木陽洋, 柴山茂久, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [学会発表] Study of Thermal Annealing Effect on Smartcut Ge-on-Insulator Substrate2015

    • 著者名/発表者名
      Jian Kang, Xiao Yu, Mitsuru Takenaka, Shinichi Takagi
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [学会発表] エピタキシャル金属/ゲルマニウム接合の形成による界面電気伝導特性の制御2015

    • 著者名/発表者名
      中塚理, 鄧云生, 鈴木陽洋, 坂下満男, 田岡紀之, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 第180回研究集会(多層配線システム研究委員会 研究
    • 発表場所
      機械技術振興会館
    • 年月日
      2015-03-02
  • [学会発表] 新しいIV族系半導体材料の開発と界面制御2015

    • 著者名/発表者名
      財満鎮明
    • 学会等名
      応用物理学会 薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会 共催 特別研究会「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」(第20回記念研究会)
    • 発表場所
      東レ研修センター
    • 年月日
      2015-01-30 – 2015-01-31
    • 招待講演
  • [学会発表] Sn/Geコンタクトにおけるフェルミレベルピニングの軽減およびショットキー障壁高さの低減2015

    • 著者名/発表者名
      鈴木陽洋, 柴山茂久, 黒澤昌志, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会 薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会 共催 特別研究会「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」(第20回記念研究会)
    • 発表場所
      東レ研修センター
    • 年月日
      2015-01-30 – 2015-01-31
  • [学会発表] GeO2薄膜の正方晶形成による化学的安定性の向上2015

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 吉田鉄兵, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会 薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会 共催 特別研究会「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」(第20回記念研究会)
    • 発表場所
      東レ研修センター
    • 年月日
      2015-01-30 – 2015-01-31
  • [学会発表] Crystal growth of Si1-xSnx alloys with high Sn contents2015

    • 著者名/発表者名
      M. Kurosawa, M. Kato, Y. Nagae, T. Yamaha, O. Nakatsuka and S. Zaima
    • 学会等名
      8th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Sendai
    • 年月日
      2015-01-29 – 2015-01-30
  • [学会発表] Epitaxial Growth of Ge1-xSnx Thin Films by using Metal-Organic Chemical Vapor Deposition2015

    • 著者名/発表者名
      Y. Inuzuka, S. Ike, T. Asano, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      8th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Sendai
    • 年月日
      2015-01-29 – 2015-01-30
  • [学会発表] Formation of strain-free Si1-x-yGexSny layers on Ge surfaces by using solid-liquid coexisting2015

    • 著者名/発表者名
      M. Kato, M. Kurosawa, T. Yamaha, N. Taoka, O. Nakatsuka and S. Zaima
    • 学会等名
      8th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Sendai
    • 年月日
      2015-01-29 – 2015-01-30
  • [学会発表] Behaviors of tin related defects in Sb doped n-type germanium2015

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, N. Taoka, M. Sakashita, O. Nakatsuka and S. Zaima
    • 学会等名
      8th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Sendai
    • 年月日
      2015-01-29 – 2015-01-30
    • 招待講演
  • [学会発表] Photoluminescence Property of Ge1-xSnx Epitaxial Layers Grown on Ge(001) substrates2015

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, K. Hozaki, T. Koyama, N. Taoka, O. Nakatsuka, H. Kishida and S. Zaima
    • 学会等名
      8th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Sendai
    • 年月日
      2015-01-29 – 2015-01-30
  • [学会発表] 有機金属化学気相成長法によるGe1-xSnxエピタキシャル層形成2014

    • 著者名/発表者名
      犬塚雄貴, 池進一, 浅野孝典, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第14回日本表面科学会中部支部 学術講演会
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2014-12-20
  • [学会発表] Sbドープn型Ge中のSn関連欠陥の挙動2014

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, 田岡紀之, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第14回日本表面科学会中部支部 学術講演会
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2014-12-20
  • [学会発表] Ge-on-Insulator Substrate Fabrication for Ge CMOS Photonics Platform2014

    • 著者名/発表者名
      J. Kang, X. Yu, M. Takenaka, and S. Takagi
    • 学会等名
      4th International Symposium on Photonics and Electronics Convergence (ISPEC2014)
    • 発表場所
      ENEOS hall, The University of Tokyo
    • 年月日
      2014-11-18
  • [学会発表] Strain measurement of Heteroepitaxial GeSn/Ge microstructures by nano-beam electron diffraction2014

    • 著者名/発表者名
      K. Doi, K. Saitoh, N. Tanaka, S. Ike, O Nakatsuka and S. Zaima
    • 学会等名
      The 58th Symposium of The Japanese Society of Microscopy
    • 発表場所
      Fukuoka
    • 年月日
      2014-11-16 – 2014-11-17
  • [学会発表] Development of metal/Ge contacts for engineering Schottky barriers2014

    • 著者名/発表者名
      O. Nakatsuka, Y. Deng, A. Suzuki, S. Shibayama, M. Kurosawa, W. Takeuchi, M. Sakashita, N. Taoka, and S. Zaima
    • 学会等名
      JSPS Core-to-Core Program Workshop "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Belgium
    • 年月日
      2014-11-13 – 2014-11-14
  • [学会発表] Study of Local Strain Distribution in Ge1-xSnx/Ge Fine Structure by using Synchrotron X-ray2014

    • 著者名/発表者名
      S. Ike, Y. Moriyama, M. Kurosawa, N. Taoka, O. Nakatsuka, Y. Imai, S. Kimura, T. Tezuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      JSPS Core-to-Core Program Workshop "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Belgium
    • 年月日
      2014-11-13 – 2014-11-14
  • [学会発表] Hydrogen Surfactant Epitaxy of Ge1-xSnx Layers2014

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, N. Taoka, K. Hozaki, W. Takeuchi,M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      JSPS Core-to-Core Program Workshop "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Belgium
    • 年月日
      2014-11-13 – 2014-11-14
  • [学会発表] Ge1-x-ySixSnyエピタキシャル層の結晶性の歪構造依存性2014

    • 著者名/発表者名
      浅野孝典, 寺島辰也, 山羽隆, 田岡紀之, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会SC東海地区学術講演会2014(JSAP SCTS 2014)
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2014-11-08
  • [学会発表] リン酸溶液中レーザドーピングにより低温形成したGe pnダイオードの電気的特性2014

    • 著者名/発表者名
      高橋恒太, 黒澤昌志, 池上浩, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会SC東海地区学術講演会2014(JSAP SCTS 2014)
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2014-11-08
  • [学会発表] 有機金属原料化学気相成長法によるGe1-xSnxエピタキシャル層の結晶性2014

    • 著者名/発表者名
      犬塚雄貴, 池進一, 浅野孝典, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会SC東海地区学術講演会2014(JSAP SCTS 2014)
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2014-11-08
  • [学会発表] Sn/Ge界面の結晶構造およびショットキー障壁高さのGe面方位依存性2014

    • 著者名/発表者名
      鈴木陽洋, Y. Deng, 柴山茂久, 黒澤昌志, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会SC東海地区学術講演会2014(JSAP SCTS 2014)
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2014-11-08
  • [学会発表] 固相エピタキシャル成長法を用いた高Sn組成SiSn層の形成2014

    • 著者名/発表者名
      加藤元太, 黒澤昌志, 山羽隆, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会SC東海地区学術講演会2014(JSAP SCTS 2014)
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2014-11-08
  • [学会発表] パルスMOCVD法を用いたGe(011)基板上における正方晶GeO2膜の形成2014

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 吉田鉄兵, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会SC東海地区学術講演会2014(JSAP SCTS 2014)
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2014-11-08
  • [学会発表] シリコンナノエレクトロニクスのための新材料開発と表面・界面2014

    • 著者名/発表者名
      財満鎭明
    • 学会等名
      第34回表面科学学術講演会
    • 発表場所
      島根県立産業交流会館(くにびきメッセ)
    • 年月日
      2014-11-06 – 2014-11-08
    • 招待講演
  • [学会発表] Formation of Epitaxial NiGe Layer on Ge(001) Substrate and Influence of Interface Structure on Schottky Barrier Height2014

    • 著者名/発表者名
      O. Nakatsuka, Y. Deng, M. Sakashita, and S. Zaima
    • 学会等名
      Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETA Plus 2014)
    • 発表場所
      Tokyo
    • 年月日
      2014-10-22 – 2014-10-24
  • [学会発表] Low Schottky barrier height contacts with Sn electrode for various orientation n-Ge substrates2014

    • 著者名/発表者名
      A. Suzuki, D. Yunsheng, S. Shibayama, M. Kurosawa, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETA Plus 2014)
    • 発表場所
      Tokyo
    • 年月日
      2014-10-22 – 2014-10-24
  • [学会発表] Poly & Epitaxial Crystallization of Silicon-tin Binary Alloys for Future Optoelectronics2014

    • 著者名/発表者名
      M. Kurosawa, M. Kato, K. Takahashi, T. Yamaha, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      16th International Conference on Thin Films (ICTF16)
    • 発表場所
      Croatia
    • 年月日
      2014-10-13 – 2014-10-16
  • [学会発表] Challenges and Developments in GeSn Process Technology for Si Nanoelectronics2014

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, O. Nakatsuka, N. Taoka, K. Kato, W. Takeuchi, and M. Sakashita
    • 学会等名
      226th ECS Meeting and SMEQ Joint International Meeting
    • 発表場所
      Mexico
    • 年月日
      2014-10-05 – 2014-10-09
    • 招待講演
  • [学会発表] Epitaxial Growth of GeSn Layers on (001), (110), and (111) Si and Ge Substrates2014

    • 著者名/発表者名
      O. Nakatsuka, N. Taoka, T. Asano, T. Yamaha, M. Kurosawa, W. Takeuchi, and S. Zaima
    • 学会等名
      226th ECS Meeting and SMEQ Joint International Meeting
    • 発表場所
      Mexico
    • 年月日
      2014-10-05 – 2014-10-09
    • 招待講演
  • [学会発表] 新しいIV族半導体材料の開発とシリコンナノエレクトロニクスへの応用2014

    • 著者名/発表者名
      財満鎭明
    • 学会等名
      日本金属学会 第2回エレクトロニクス薄膜材料研究会「最先端電子・情報素子と機能材料研究の動向」
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2014-09-25
    • 招待講演
  • [学会発表] Ge-on-Insulator fabrication by smartcut technology for Ge CMOS photonics platform2014

    • 著者名/発表者名
      亢健,玉虓,竹中充,高木信一
    • 学会等名
      第75回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      北海道大学札幌キャンパス
    • 年月日
      2014-09-18
  • [図書] O. Nakatsuka, S. Zaima (Edited by:Tom Kuech)2014

    • 著者名/発表者名
      Handbook of Crystal Growth, Second Edition: Thin Films and Epitaxy
    • 総ページ数
      18
    • 出版者
      Elsevier
  • [備考] 財満研究室ホームページ

    • URL

      http://alice.xtal.nagoya-u.ac.jp/zaimalab/index.html

  • [備考] 高木・竹中研究室ホームページ

    • URL

      http://www.mosfet.k.u-tokyo.ac.jp/

  • [備考] 齋藤研究室ホームページ

    • URL

      http://sirius.esi.nagoya-u.ac.jp/index.html

  • [産業財産権] MOSキャパシタ及びMOSFET2015

    • 発明者名
      坂下、財満、中塚、竹内、柴山、田岡、加藤、吉田
    • 権利者名
      坂下、財満、中塚、竹内、柴山、田岡、加藤、吉田
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      特願2015-22059
    • 出願年月日
      2015-04-06

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公開日: 2016-06-01  

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