| 研究課題/領域番号 |
26246002
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
ナノ構造物理
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| 研究機関 | 北陸先端科学技術大学院大学 |
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研究代表者 |
高村 由起子 (山田由起子) 北陸先端科学技術大学院大学, 先端科学技術研究科, 准教授 (90344720)
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| 連携研究者 |
フロランス アントワーヌ 北陸先端科学技術大学院大学, 先端科学技術研究科, 助教 (30628821)
尾崎 泰助 東京大学, 物性研究所, 教授 (70356723)
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| 研究協力者 |
リー チチェン
ジャンベール フローリアン
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2018-03-31
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| キーワード | ナノ材料 / 二次元材料 / シリセン / 薄膜 / 走査プローブ顕微鏡 / 放射光実験 / 角度分解光電子分光 |
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| 研究成果の概要 |
基板との相互作用の小さいシリセンを形成すること，また，シリセンの性質を保持した上でその酸化を防止する保護膜を形成することを目的として，二ホウ化ジルコニウム薄膜上シリセンにケイ素，ゲルマニウム，酸化物，窒化物などを蒸着し，シリセンと基板の間の相互作用，シリセンと蒸着物の間の相互作用の性質を明らかにするために，放射光施設における光電子分光を行い，多くの知見を得た．二ホウ化ジルコニウム薄膜上単原子層六方晶窒化ホウ素にケイ素を蒸着し，シリセンの形成を試みた結果，シリセンが窒化ホウ素の下に形成され，窒化ホウ素がシリセンの性質を変えずに酸化防止膜として機能することが実験的に明らかとなった．
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| 自由記述の分野 |
材料科学
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