| 研究課題/領域番号 |
26249010
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
生産工学・加工学
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
垣内 弘章 大阪大学, 工学研究科, 准教授 (10233660)
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| 研究分担者 |
押鐘 寧 大阪大学, 工学研究科, 助教 (40263206)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2019-03-31
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| キーワード | 特殊加工 / 薄膜作製技術 / 大気圧プラズマ / 薄膜デバイス |
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| 研究成果の概要 |
本研究課題では，投入電力をパルス変調し，そのON時間を制御することにより，短寿命ラジカルやナノパーティクルの生成を可能な限り減少させ，プラスチックフィルムが使用可能な低温における高品質Si成膜プロセスの確立を一つの大目標として目指した．同時に，TFTのゲート絶縁膜としてのSiOx薄膜の電気特性向上についても検討を行った．その結果，一般的な減圧プラズマCVDと同等の電気特性を有するa-SiおよびSiOx薄膜を120 °Cの低温でも形成可能となった．このことは，TFTだけでなく，今後の種々のフレキシブル薄膜デバイスの高能率作製プロセスの開発に向けた大きな成果と考えられる．
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| 自由記述の分野 |
薄膜工学，大気圧プラズマプロセス
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
本研究は，研究代表者ら独自の超高周波励起大気圧プラズマに関する知見・技術を生かし，一般的な減圧プラズマ技術や他の大気圧プラズマ源では困難なSi系高機能薄膜の高能率作製プロセスの創成を目指したものであり，研究代表者の知る限りにおいて他に同様の試みは見られない．低温・高速・高品質成膜に適した大気圧プラズマとはどのようなものかが実質的に明らかになりつつあり，この意味で，本研究の学術的意義は大きいといえる．本研究の成果を大気圧プラズマの実用化に繋げていけば，将来のフレキシブルエレクトロニクスへのみならず，種々の基材上への高能率の機能性コーティング技術開発にも貢献でき，その社会的意義も大きいと考える．
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