デザイン保護の世界的な統一を目指してー創作実態と法的保護の調和ー

2016 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 26282006
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 一部基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: デザイン学
• 研究機関: 九州大学
• 研究代表者: 麻生 典 九州大学, 芸術工学研究科(研究院), 助教 (20708416)
• 研究分担者: 渕川 和彦 山口大学, 経済学部, 准教授 (00711227) ; 石井 達郎 九州大学, 芸術工学研究科(研究院), 助教 (10363392) ; 秋田 直繁 九州大学, 芸術工学研究科(研究院), 助教 (10708415) ; 伊藤 浩史 九州大学, 芸術工学研究科(研究院), 助教 (20512627) ; 薮本 将典 慶應義塾大学, 法学部, 准教授 (20566880) ; 藤 紀里子 九州大学, 芸術工学研究科(研究院), 助教 (30315155) ; Rademacher C 早稲田大学, 法学学術院, 准教授 (30609772) ; 知足 美加子 九州大学, 芸術工学研究科(研究院), 准教授 (40284583) ; 高 秀成 金沢大学, 法学系, 准教授 (50598711) ; 中野 万葉子 朝日大学, 法学部, 講師 (10761447)
• 研究協力者: 金 晙河 ; 木村 剛大 ; 中辻 七朗 ; CARAPETO Roberto ; 末宗 達行 ; 高田 久実
• 研究期間 (年度): 2014-04-01 – 2017-03-31
• キーワード: デザイン / デザイン評価分析 / デザイン保護法制 / 類似 / 認知科学 / 応用美術

研究成果の概要

本研究は、デザイン創作の実態を踏まえ得た上で、デザイン保護の世界的な統一のあり方を明らかにすることを目的とした。具体的には、デザイン保護法制の現状と課題について、(1)各国のデザイン保護法制の現状と課題、(2)各国の意匠法の淵源、(3)デザインと知的財産法以外の諸法との関係、(4)デザインプロセスとデザイナーから見たデザイン保護法制、(5)法的類似と認知科学的類似の相違、を検討した。

自由記述の分野

法学