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2016 年度 研究成果報告書

ワイドギャップ半導体における正孔注入手法の革新と新規発光素子への展開

研究課題

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研究課題/領域番号 26286045
研究種目

基盤研究(B)

配分区分一部基金
応募区分一般
研究分野 結晶工学
研究機関名城大学

研究代表者

竹内 哲也  名城大学, 理工学部, 教授 (10583817)

研究協力者 上山 智  名城大学, 理工学部, 教授 (10340291)
岩谷 素顕  名城大学, 理工学部, 准教授 (40367735)
研究期間 (年度) 2014-04-01 – 2017-03-31
キーワードワイドギャップ半導体 / 窒化物半導体 / p型 / 分極ドーピング / トンネル接合 / 光デバイス
研究成果の概要

ワイドギャップ窒化物半導体p層の課題である高抵抗・低正孔濃度を解決するために、トンネル接合、分極ドーピング、価電子帯制御の三つの新規手法を提案し、新規発光素子への応用を検証した。その結果、MOVPE法により世界で最も抵抗の低いトンネル接合を実現し、電流狭窄マイクロLEDを実現した。さらに、分極ドーピングにより、高Al組成窒化物半導体において高キャリア濃度(1×1018cm-3以上)を実現し、縦方向に電流が流れる深紫外LEDや紫外面発光レーザを実現した。

自由記述の分野

半導体デバイス

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公開日: 2018-03-22  

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