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2018 年度 研究成果報告書

大きな複屈折を有する液晶高分子の合成と光学材料への応用

研究課題

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研究課題/領域番号 26288058
研究種目

基盤研究(B)

配分区分一部基金
応募区分一般
研究分野 高分子化学
研究機関東京工業大学

研究代表者

小西 玄一  東京工業大学, 物質理工学院, 准教授 (20324246)

研究期間 (年度) 2014-04-01 – 2018-03-31
キーワード高複屈折性液晶 / 液晶 / パイ電子系
研究成果の概要

原子屈折の高いアルキルスルファニル基をもつメソゲンの液晶性の発現に成功した。さらに液晶温度範囲の拡大を行った。分子構造の対称性を下げるにより、融点の低下と液晶相温度範囲拡大し、さらにはネマチック相も形成されやすくした。片方末端にメチルチオ基(SMe)、反対側のパラ位にイソチオシアネート(NCS)、シアノ基 (CN)を導入した2つの非対称性分子と両末端にSMeを有する対称系分子を合成し、0.7を超える複屈折を実現した。また、高複屈折性のメソゲンに対してアクリル基を2つ導入した架橋剤とアクリルモノマーを光重合することにより、高複屈折性のフィルムを作製することにも成功している。

自由記述の分野

有機材料化学

研究成果の学術的意義や社会的意義

高複屈折性液晶材料はLCDフィルム、レーザー発振用フィルム、光記憶デバイス等への応用されており、さらなる高複屈折化が求められている。高複屈折性液晶は、偏光板やLCDフィルムを単一成分で作製することができ、ディスプレイの性能向上、大画面化、製造コストの削減など、そのインパクトは計り知れない。今回、実用化にはいくつかの壁があるが、上記の条件を満たす、複屈折0.8に迫る液晶材料の開発に成功した。

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公開日: 2020-03-30  

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