| 研究課題/領域番号 |
26390042
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| 研究機関 | 鶴岡工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
田中 浩 鶴岡工業高等専門学校, その他部局等, 教授 (60609957)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| キーワード | グリーンプロセス / 高速エッチング / 平滑エッチング / 極低濃度エッチング液 / 界面活性剤作用 |
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| 研究実績の概要 |
ＭＥＭＳ加工の基本加工技術であるシリコン異方性ウエットエッチングのグリーンプロセス化を目指し，平成27年度も引き続き極低濃度ＫＯＨ，ＴＭＡＨ水溶液でのエッチング加工を主体として，エッチング特性を系統的に把握した．
ＫＯＨ水溶液については，界面活性剤の添加量，あるいはＫＯＨ水溶液が高濃度の場合も含めて，エッチング加工特性を調査することができた．反応の活性化エネルギーを把握することにより，極低濃度エッチング液では拡散律速になって来ているであろうこと，微量の界面活性剤がＫＯＨ水溶液濃度によりどのように効果が変化するか等を確認できた．
また，極低濃度である１％ＫＯＨ水溶液での加工特性を把握し，いくつかの課題はあるが実用レベルにおいても使用できる結果が得られている．主な問題点として，マイクロピラミッドの発生が挙げられ，エッチング表面が荒れてしまう．これを解決する方法を検討中であるが，一つの方法としてバブリングを活用した手法により，マイクロピラミッドの大きさ，形状をコントロールできることがわかってきた．
エッチング速度を大きく，表面を平滑にすることを両立できる方法の検討を進めており，今回の研究で導入したシリコンのリアルタイム厚計測を用いて，更なる加工特性の把握，現象解析に取り組んでいる．
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
ほぼ計画通り，エッチング加工特性を把握できており，かつマイクロピラミットをコントロールできる方法の目処が得られた．
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| 今後の研究の推進方策 |
主な問題点として，マイクロピラミッドの発生が挙げられ，エッチング表面が荒れてしまう．これを解決する方法を検討中であるが，一つの方法としてバブリングを活用した手法により，マイクロピラミッドの大きさ，形状をコントロールできることがわかってきた．
エッチング速度を大きく，表面を平滑にすることを両立できる方法の検討を進めており，今回の研究で導入したシリコンのリアルタイム厚計測を用いて，更なる加工特性の把握，現象解析に取り組んでいる．
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| 次年度使用額が生じた理由 |
シリコンウェハサンプル試作を1回分次年度にまわしたため．
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| 次年度使用額の使用計画 |
最終年度実験用のサンプル作製費として使用し，研究推進する．
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