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2016 年度 実績報告書

希釈窒化物半導体中の欠陥の挙動およびデバイスの信頼性向上に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 26390057
研究機関金沢工業大学

研究代表者

上田 修  金沢工業大学, 工学研究科, 教授 (50418076)

研究分担者 矢口 裕之  埼玉大学, 理工学研究科, 教授 (50239737)
研究期間 (年度) 2014-04-01 – 2017-03-31
キーワード希釈窒化物半導体 / 欠陥 / 光照射 / 劣化 / 点欠陥 / 転位 / 電子顕微鏡 / フォトルミネッセンス
研究実績の概要

平成28年度は、本研究の目的および研究実施計画に沿って下記の2項目の研究を行った。
(1)照射パワー密度のGaInNAs/GaAs QWの発光効率に与える影響:光通信用半導体レーザや多接合型太陽電池への応用が期待されるGaInNAsは、デバイス動作時に劣化が生じることが懸念されている。今年度は、MOVPE法によって作製したGaInNAs/GaAs単一量子井戸に室温下でレーザ照射を行うことによって生じる発光効率変化に関して以下の知見を得た。
a)レーザパワー密度が低い範囲では、レーザ照射によって発光効率が増加し、また、レーザパワー密度が高くなるにつれて発光効率の増加速度が速くなった。解析の結果、異なる2つの時定数で特徴づけられる過程が存在することが分かった。
b) レーザパワー密度が高くなると発光効率はレーザ照射によって瞬時に増加した後減少した。この時の減少速度はレーザパワー密度が高くなるにつれて速くなり、減少量も大きくなった。発光効率減少についても異なる2つの時定数で特徴づけられる過程が存在することが分かった。時定数の短い成分はレーザパワー密度増加に伴い増加するのに対して、時定数の長い成分はレーザパワー密度にあまり依存しなかった。このことから時定数の短い成分はレーザ照射による新たな欠陥の発生あるいは増殖に対応すると考えられる。
(2) GaInAs層にNをδドープした結晶への光照射劣化およびその劣化部の構造評価:N量があまり多くないGaInNAs QWでも劣化は起こる。劣化部での転位ループなどの欠陥発生の有無を調べるために、局所的にNを高濃度導入した試料:Nをδドープした層を20層含むGaInAs層を用い、光照射劣化した領域の断面TEM観察を行った。その結果、現状の照射条件下では、劣化部中に、上記構造欠陥は見い出せなかった。今後、さらなるレーザパワー密度の増強により調べていく。

  • 研究成果

    (11件)

すべて 2017 2016

すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 5件) 学会発表 (6件) (うち国際学会 1件、 招待講演 2件)

  • [雑誌論文] Self-organized growth of cubic InN dot arrays on cubic GaN using MgO2017

    • 著者名/発表者名
      K. Ishii, S. Yagi, and H. Yaguchi
    • 雑誌名

      Phys. Stat. Solidi B

      巻: 254 ページ: 1600542

    • DOI

      10.1002/pssb.201600542

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Spectral change of intermediate band luminescence in GaP:N due to below-gap excitation: Discrimination from thermal activation2017

    • 著者名/発表者名
      N. Kamata, M. Suetsugu, D. Haque, S. Yagi, H. Yaguchi, F. Karlsson, and P. -O. Holtz
    • 雑誌名

      Phys. Stat. Solidi B

      巻: 254 ページ: 1600566

    • DOI

      10.1002/pssb.201600566

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Structural evaluation of defects in β-Ga2O3 single crystals grown by edge-defined film-fed growth process2016

    • 著者名/発表者名
      O.Ueda, N. Ikenaga, K. Koshi, K. Iizuka, A. Kuramata, K. Hanada, T. Moribayashi, S. Yamakoshi, and M. Kasu
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 55 ページ: 1202BD

    • DOI

      10.7567/JJAP.55.1202BD

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of thermal annealing on the crystallization of low-temperature-grown In0.42Ga0.58As on InP substrate2016

    • 著者名/発表者名
      Y. Tominaga, Y. Kadoya, H. Morioka, and O. Ueda
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 55 ページ: 110313

    • DOI

      10.7567/JJAP.55.110313

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Relationship between crystal defects and leakage current in β-Ga2O3 Schottky barrier diodes2016

    • 著者名/発表者名
      M. Kasu, K. Hanada, T. Moribayashi, A. Hashiguchi, T. Oshima, T. Oishi, K. Koshi, K. Sasaki, A. Kuramata, and O. Ueda
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 55 ページ: 1202BB

    • DOI

      10.7567/JJAP.55.1202BB

    • 査読あり
  • [学会発表] 中間バンド型GaPN混晶でのキャリア再結合過程の光学的評価2017

    • 著者名/発表者名
      根岸知華、ドゥラル ハク、鎌田憲彦、矢口裕之
    • 学会等名
      第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県・横浜市)
    • 年月日
      2017-03-14
  • [学会発表] Gradual degradation in III-V and GaN-related optical devices2017

    • 著者名/発表者名
      O. Ueda
    • 学会等名
      Intensive Discussion on Growth of Nitride Semiconductors
    • 発表場所
      東北大学金属材料研究所(宮城県・仙台市)
    • 年月日
      2017-01-17
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] EFG成長したβ-Ga2O3結晶中の欠陥のTEMを中心とした評価2017

    • 著者名/発表者名
      上田 修、池永訓昭
    • 学会等名
      日本学術振興会第161委員会第98回研究会
    • 発表場所
      長浜ロイヤルホテル(滋賀県・長浜市)
    • 年月日
      2017-01-13
    • 招待講演
  • [学会発表] レーザ照射によるGaInNAs半導体の発光効率への影響2016

    • 著者名/発表者名
      米倉成一、高宮健吾、八木修平、上田 修、矢口裕之
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ(新潟県・新潟市)
    • 年月日
      2016-09-15
  • [学会発表] InGaN/GaN単一量子井戸構造の光照射による劣化2016

    • 著者名/発表者名
      上田 修、山口敦史、谷本瞬平、西堀翔宣、熊倉一英、山本秀樹
    • 学会等名
      第35回電子材料シンポジウム
    • 発表場所
      ラフォーレ琵琶湖(滋賀県・守山市)
    • 年月日
      2016-07-07
  • [学会発表] Optical Characterization of Carrier Recombination Processes in GaPN by Two-Wavelength Excited Photoluminescence2016

    • 著者名/発表者名
      M. Suetsugu, N. Kamata, S. Yagi, H. Yaguchi, T. Fukuda, F. Karlsson, and P. -O. Holtz
    • 学会等名
      43rd International Symposium on Compound Semiconductors
    • 発表場所
      富山国際会議場(富山県・富山市)
    • 年月日
      2016-06-27

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公開日: 2018-01-16  

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