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スズとマグネシウムあるいは亜鉛（Zn）とシリコンなど複合金属酸化薄膜においては、フォトクロミズム (PC)やエレクトロクロミズムが発現する。その金属酸化薄膜をプラズマプロセスで作製する技術の開発を行った。手法として、パルスレーザー堆積（PLD）法とプラズマCVD法を用いた。PLD法では、30 mm角基板全面にPC薄膜を再現性よく作製することができた。プラズマCVD法では、酸化亜鉛（ZnO）だけでPC膜が得られることを見出した。このZnOのPC膜について、X線吸収による結晶構造の調査を行い、PC転移に伴ってZnの価数とZn-O間の距離が変化することなどが明らかになった。
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