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本年度は、Al2O3、SrTiO33結晶基板及びシリカグラスの上にPLD(パルスレーザー蒸着)法を用いて高品質なn-型Ca3Co4O9薄膜を成膜しました。Tdep=700Cでは、Al2O3に堆積した薄膜は、Al2O3やSTO上に堆積した薄膜と比べると、常にZT=（σS^2）T/k（性能指数）の値がより高いことが示されており、T=600Kでは、ZT(Al2O3)=0.045でした。
PLD法によってAZO+ポリマー（PMMA）ナノ粒子をAl2O3基盤の上に調製された。ｋ（PMMA）＝5.9W/mK、そして、T=300Kで、σ（PMMA）＝1382S/cm、AZO薄膜の３倍になりました。PMMAポリマーナノ粒子がカーボンになるので、σの増加する理由と思います。結果はジャーナルに提出され、評価中です。
最近、PLD法によってAZO+Aｌ２O3ナノ粒子をAl2O3基盤の上に調製された。AZO+Aｌ２O3薄膜は現在調査中です。
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