研究課題
基盤研究(C)
Si単結晶を用いた寄生散乱除去法を開発し、マイクロビーム極小角X線散乱を行うための装置を製作した。この装置を利用することにより、従来観測できなかった数マイクロメートル領域における数百ナノメートルの構造を散乱法により評価できるようになった。また、SPring-8 BL03XUにて共用装置として一般に利用された。企業ユーザーによってゴム材料の不均一性評価、動的構造評価などに利用された。
放射光科学