放射状段階的錯形成を鍵とする超分子構造体の構築

2016 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 26410128
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 高分子化学
• 研究機関: 東京工業大学
• 研究代表者: 山下 建 (アルブレヒト建) 東京工業大学, 科学技術創成研究院, 助教 (50599561)
• 研究期間 (年度): 2014-04-01 – 2017-03-31
• キーワード: 樹状高分子 / 超分子ポリマー / フェニルアゾメチン / トリフェニルメチリウム

研究成果の概要

本研究では、これまでに多く報告されている配位結合や水素結合などを利用した一般的な超分子構造体には難しい、超分子構造体内に配位サイトを持ち多様な形状の超分子構造体を構築することを目的とした。トリフェニルメチリウムカチオンを両端に持つ直線型架橋分子と多数の配位サイトを持ち放射状段階的錯形成挙動を示すフェニルアゾメチンデンドリマーを組み合わせることで空き配位サイトを有する直線やシート状の超分子構造体を得ることが出来た。

自由記述の分野

高分子化学