サブミクロン薄膜はく離強度評価システムの構築とナノワイヤによるはく離強度の向上

2016 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 26420016
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 機械材料・材料力学
• 研究機関: 広島大学
• 研究代表者: 加藤 昌彦 広島大学, 工学研究院, 准教授 (70274115)
• 研究期間 (年度): 2014-04-01 – 2017-03-31
• キーワード: プラズマ放電 / はく離強度 / ナノワイヤ / SiC薄膜

研究成果の概要

薄膜のはく離強度を簡便かつ定量的に評価することは重要である．そこで，サブミクロン薄膜はく離強度評価システムを新たに構築した．構築したシステムにより試験した結果，信頼できる値が得られ，はく離強度評価可能であることがわかった．
薄膜のはく離強度を向上させるため，基材表面にナノワイヤを形成したのち，製膜した．マイクロ円環圧縮試験法によりはく離強度を評価した結果，向上していることがわかり，ナノワイヤの効果が明らかとなった．

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