研究課題
基盤研究(C)
切削加工用コーティング材としてTiB2をベースとしたTiB2‐MoS2複合膜を形成し,室温・無潤滑下における摩擦係数0.1を得ることが可能となった.また,TiB2‐MoS2複合膜の摩擦係数は200℃において0.01以下にまで低下した.200℃における摩擦により摩耗痕は平滑になり,200℃での加熱により複合膜表面でのホウ素の酸化が確認された.これらは摩擦表面でのB2O3の生成・溶融を示唆する結果と考えられる.
薄膜形成