2016 年度研究成果報告書

Ni合金薄膜を用いた高温繰返し応力測定ゲージの開発

研究課題

研究課題/領域番号	26420078
研究種目	基盤研究(C)
配分区分	基金
応募区分	一般
研究分野	設計工学・機械機能要素・トライボロジー
研究機関	鳥取大学
研究代表者	小野勇一鳥取大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (50335501)
研究期間 (年度)	2014-04-01 – 2017-03-31
キーワード	応力測定 / 金属疲労
研究成果の概要	電着によりニッケル薄膜とニッケル合金薄膜を作製した．再結晶温度はニッケル薄膜よりもニッケル合金薄膜のほうが高いことが確認できた．また，繰返し負荷試験では，250℃の雰囲気温度においてニッケル薄膜に発生した成長粒子の密度と結晶方位を利用すれば応力が測定できることが明らかとなった．一方，ニッケル合金薄膜では，350℃の雰囲気温度で粒子の成長を確認できたが，応力を測定するための較正式の導出には至らなかった．
自由記述の分野	材料力学