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プラズマイオンによる材料プロセスの一つの方法としてパルスバイアスシステムを伴った高電力パルススパッタシステム（HPPS）を構築し、高硬度コ－ティング材料であるダイヤモンドライクカーボン（DLC）薄膜や炭化窒化チタン（TiCN）薄膜を作製した。炭化水素ガスを添加した平板ターゲット型HPPSでは、DLC膜の硬度は最大で23GPa、対向ターゲット型HPPSでは、圧力が1Pa以下の条件下で25GPaを超える硬度が実現できた。さらに、窒素を添加した対向ターゲット型HPPSによりTiCN膜を作製した結果、最大33GPaの高硬度な膜が作製できた。
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