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2016 年度 研究成果報告書

半導体量子構造における光ガルバノ効果の解明

研究課題

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研究課題/領域番号 26420288
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関国立研究開発法人物質・材料研究機構

研究代表者

川津 琢也  国立研究開発法人物質・材料研究機構, 機能性材料拠点, 主任研究員 (00444076)

連携研究者 大森 雅人  名古屋大学, 産学協同研究部門, 特任講師 (70454444)
秋山 芳広  豊田工業大学, 工学研究科, 研究員 (60469773)
研究期間 (年度) 2014-04-01 – 2017-03-31
キーワード電子デバイス / 量子構造 / 赤外材料・素子
研究成果の概要

本研究では、①ゲート局所照射と②異方的な量子ドットの埋込みの2つの手法を用いて、面内光電流を高電子移動度トランジスタに発生させることを試みた。
トランジスタのゲートの非対称な位置にレーザー光を照射すると、電流の循環が生じ、面内光電流が発生することを示した。特に、ゲート端を照射した時、電流は最大となり、その値は9μA/mWに達した。また、異方的な量子ドットを埋め込んだトランジスタを作製し光電流を調べた。その結果、端面照射により75nA/mWの面内光電流が発生することを示した。
本研究では、量子構造の作製評価も目的の1つであり、InGaAs量子細線やGaSb量子ドットの光学特性を明らかにした。

自由記述の分野

物性物理

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公開日: 2018-03-22  

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