研究課題/領域番号 |
26420299
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
電子デバイス・電子機器
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研究機関 | 沖縄工業高等専門学校 (2015-2016) 千葉大学 (2014) |
研究代表者 |
藤井 知 沖縄工業高等専門学校, 情報通信システム工学科, 教授 (30598933)
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連携研究者 |
橋本 研也 千葉大学, 工学研究科, 教授 (90134353)
大森 達也 千葉大学, 工学研究科, 助教 (60302527)
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研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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キーワード | 弾性表面波 / 圧電薄膜 / ダイヤモンド / マイクロ波工学 |
研究成果の概要 |
RFマグネトロンスパッタリング装置を用い、Sc0.32at%Al68at%合金とSc0.43at%Al57at%合金のターゲットを用い、シリコン上に六方晶C軸配向性を持ったScAlN薄膜の形成に成功した。特に、Sc0.43at%Al57at%合金では、ターゲット中のSc濃度が高くなるに従い、C軸配向性が失われやすい。TEMで詳細に観察したところ、結晶成長初期にはSc濃度が高くなり、アモルファス層が形成されやすいことが分かった。また、シリコンウエハ上にSAW共振子を試作したところ、2GHzにて2.7%のK2を持つことが示され、この値はAlN薄膜に比べ、6倍も大きいものである。
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自由記述の分野 |
電子部品
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