| 研究課題/領域番号 |
26420741
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| 研究機関 | 九州大学 |
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研究代表者 |
杉山 武晴 九州大学, シンクロトロン光利用研究センター, 准教授 (80391994)
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| 研究期間 (年度) |
2014-04-01 – 2017-03-31
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| キーワード | 無電解めっき / UV処理 / 皮膜／基板界面 / in-situ XAFS / 放射光 / 硬X線 |
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| 研究実績の概要 |
絶縁性基板上でUV照射による基板表面改質法を組み合わせて形成した無電解めっき金属皮膜について、皮膜／基板界面の元素の化学結合状態および結晶構造、特に加熱処理による界面の状態変化から皮膜／基板界面の密着力を明らかにすることを目的とし、放射光を利用するX線吸収微細構造（XAFS）の分析システムの開発・高度化と併せて研究を進めた。試料には、ソーダガラスを基板として無電解Cuめっきによる成膜後に電解Agめっきおよび電解Cuめっきを成膜した試料を用いた。in-situ XAFS分析システムの開発およびこれを用いた測定は、九州シンクロトロン光研究センター（SAGA-LS）の九州大学ビームライン（BL06）において行った。XAFS測定では、転換電子収量法（CEY）により皮膜および基板表面、蛍光法（PFY）により皮膜／基板界面の考察を進めた。in-situ XAFS分析システムは、温度コントローラによる制御システムの高度化を進めた。学会・研究会において他事案を含めて当該研究課題の進捗について計2回（内1回は招待講演）報告した。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
in-situ XAFS分析システムの整備および無電解めっき皮膜試料の測定を進めた。共用機器であるX線検出器の故障のため蛍光法によるXAFS測定が実施できない期間が生じたが、転換電子収量法による測定および制御システムの高度化を進めた。
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| 今後の研究の推進方策 |
in-situ XAFS分析システムの高度化を並行して進めながら無電解めっき金属皮膜のin-situ実験を進め、皮膜表面および皮膜／基板界面の考察を進める。試料温度上昇によるX線検出器への影響を調査しながら必要に応じて対策を検討する。
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| 次年度使用額が生じた理由 |
研究進捗に伴う消耗品費の変動、および、当該年度に参加した学会・研究会がいずれも所属機関で開催されたことから旅費の執行減となった。
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| 次年度使用額の使用計画 |
次年度配分額と合わせて執行する。
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