高分子ブラシによる表面改質を利用した非最密充填コロイド粒子膜の創製とその構造制御

2016 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 26420767
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 化工物性・移動操作・単位操作
• 研究機関: 佐賀大学
• 研究代表者: 森貞 真太郎 佐賀大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (60401569)
• 研究協力者: 大渡 啓介 ; 川喜田 英孝
• 研究期間 (年度): 2014-04-01 – 2017-03-31
• キーワード: 粒子膜 / 高分子電解質 / 移流集積 / 非最密充填構造 / 自己集積

研究成果の概要

カチオン性高分子電解質であるpoly(3-acrylamidopropyl trimethylammonium chloride) (PAPTAC)またはpoly(vinylbenzyl trimethylammonium chloride) (PVBTA)をシリカ粒子表面に修飾し，得られた粒子をマイカまたはガラス基板を用いた移流集積法に適用することで粒子膜の作製を行った．その結果，PAPTAC修飾シリカ粒子を用いると，いくつかの粒子がビーズ状に連なった構造の単粒子膜が得られたが，PVBTA修飾シリカ粒子を用いることで粒子同士が間隔を空けて配列した非最密充填構造の粒子膜を得ることに成功した．

自由記述の分野

コロイド・界面化学工学